5月29日消息，提到荷蘭ASML公司，大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商，7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設(shè)備。不過ASML不只是光刻機(jī)厲害，今天他們宣布了另外一個(gè)新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測(cè)機(jī)HMI eScan1000，適用于5nm及更先進(jìn)工藝，使得產(chǎn)能大漲600%。

隨著制程工藝不斷提升，晶圓的制造也越來越復(fù)雜，這也會(huì)導(dǎo)致晶圓中的錯(cuò)誤更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測(cè)系統(tǒng)，內(nèi)部也有復(fù)雜的光電子系統(tǒng)，能夠產(chǎn)生、控制多個(gè)電子束，然后根據(jù)反射回來的電子束成像來分析晶圓質(zhì)量，并有高速運(yùn)行的平臺(tái)以控制測(cè)試的晶圓數(shù)量，還要有計(jì)算系統(tǒng)處理電子束的數(shù)據(jù)。

簡(jiǎn)單來說，ASML研發(fā)的這個(gè)HMI eScan1000機(jī)器就是一臺(tái)驗(yàn)證先進(jìn)工藝生產(chǎn)出來的晶圓質(zhì)量的系統(tǒng)，工藝越先進(jìn)，檢測(cè)系統(tǒng)就越重要，它的檢測(cè)精度、吞吐量決定了生產(chǎn)的效率。

ASML的HMI eScan1000的突破之處在于能夠同時(shí)產(chǎn)生、控制九道電子束，所以產(chǎn)能提升了600%，可以大大減少晶圓質(zhì)量分析所用的時(shí)間。

作為制造芯片的核心器件，光刻機(jī)自然是重中之重，而一款性能出眾的光刻機(jī)也是制造高性能芯片的必要條件，而在光刻機(jī)領(lǐng)域尤其是高端光刻機(jī)，目前基本上被ASML所壟斷，而ASML也提供給包括英特爾、臺(tái)積電以及三星等晶圓代工廠提供最新的EUV光刻機(jī)。目前隨著技術(shù)的進(jìn)步，越來越多的晶圓代工廠商開始研發(fā)和量產(chǎn)5nm工藝，如今ASML宣布將會(huì)采用全新的技術(shù)，從而讓5nm晶圓的產(chǎn)品成倍提升。

在業(yè)界，ASML壟斷了7nm及以下芯片制造的設(shè)備供應(yīng)，全世界的芯片業(yè)巨頭、代工廠商都只能購買這家公司的設(shè)備，才能給全世界帶來最頂級(jí)的芯片產(chǎn)品。而伴隨著制程工藝的持續(xù)提升，晶圓制造的過程也愈發(fā)復(fù)雜，生產(chǎn)過程中的錯(cuò)誤也變得越來也多，而ASML剛剛發(fā)布的HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的高科技監(jiān)測(cè)系統(tǒng)。

據(jù)了解，這套設(shè)備的內(nèi)部擁有極其復(fù)雜的光電子系統(tǒng)，自身就能批量產(chǎn)生和控制電子束，然后根據(jù)反射回來得電子束成像來分析生產(chǎn)中得景園質(zhì)量。另外，它還高速運(yùn)行的平臺(tái)和計(jì)算系統(tǒng)，可以精確地控制與處理測(cè)試晶圓的數(shù)量、電子束的數(shù)據(jù)。

總得來說，ASML剛剛發(fā)布的這臺(tái)HMI eScan1000就是一臺(tái)頂級(jí)晶圓質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng)。在芯片領(lǐng)域中，制造工藝越先進(jìn)，對(duì)檢測(cè)系統(tǒng)的需求就越高，它的精度和吞吐量都會(huì)直接影響最終的生產(chǎn)效率。

值得一提的是，HMI eScan1000較以往取得了明顯的突破：它能同時(shí)產(chǎn)生和控制九道電子光束，可以直接提升產(chǎn)能達(dá)600%，大大減少了晶圓質(zhì)量分析所耗費(fèi)的時(shí)間成本。目前HMI eScan1000可以用于5nm及以下先進(jìn)工藝的晶圓測(cè)試，已經(jīng)交付給客戶進(jìn)行測(cè)試驗(yàn)證，未來ASML還會(huì)推出光束更多的測(cè)試設(shè)備以滿足客戶對(duì)先進(jìn)工藝的要求。

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