掩膜版整體向更高精度、大尺寸、全產(chǎn)業(yè)鏈方向發(fā)展。由于掩膜版行業(yè)門檻較高,國內(nèi)掩膜版行業(yè)主要由國外掩膜版廠商占據(jù),美國Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司市場份額超過80%。
1、掩膜版主要材料為玻璃基板
掩膜板產(chǎn)品的原材料和中間材料為玻璃基板、鍍鉻膜層、光刻膠、光學(xué)膜等,其中主要原材料為玻璃基板,按材質(zhì)可以分為石英基板和蘇打基板,石英基板使用石英玻璃作為材料,光學(xué)透過率高,熱膨脹率低,相比蘇打玻璃更為平整和耐磨,使用壽命長,主要用于高精度掩膜板。由于石英玻璃的優(yōu)良特性,未來其在掩膜板產(chǎn)品中的應(yīng)用會更加廣泛。
光掩膜上游主要包括圖形設(shè)計、光掩膜設(shè)備及材料行業(yè),全球的主要供應(yīng)廠商有日本東曹,日本信越化學(xué)、日本尼康和菲利華等;中游為掩膜板制造行業(yè),主要企業(yè)包括日本HOYA,日本DNP,韓國LG-IT、日本SKE和清溢光電;
下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè),廣泛應(yīng)用于消費電子、家電、汽車等電子產(chǎn)品領(lǐng)域,主要客戶為半導(dǎo)體廠商英特爾、三星、臺積電等以及顯示屏廠商京東方、華星光電等。
2、顯示面板和IC成為光掩膜板主要應(yīng)用領(lǐng)域
從全球市場來看,光掩膜板主要應(yīng)用在IC、LCD領(lǐng)域,占比分別為60%和23%。其他的運用領(lǐng)域包括OLED和PCB,分布占比5%和2%。因此我們認(rèn)為,半導(dǎo)體和LCD的未來發(fā)展將會為光掩膜板提供增長潛力和技術(shù)突破。
3、國外企業(yè)壟斷 國內(nèi)品牌替代空間大
隨著面板世代線增加不斷增大,對掩膜板精度、分辨率、平坦度和精度提出更高的要求。在高世代TFT領(lǐng)域,國內(nèi)配套掩膜板還是一片空白。AMOLED、Gray-tone、Half-tone掩膜板等,同樣依賴進口。國內(nèi)能夠配套G8.5以下TFT用掩膜板的企業(yè)只有路維光電和清溢光電。
半導(dǎo)體領(lǐng)域,除英特爾、三星、臺積電三家全球最先進的晶圓制造廠所用的掩膜板自供外,其它的掩膜板主要被美國Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所壟斷。國內(nèi)少數(shù)企業(yè)如無錫華潤、無錫中微等,只能制造0.13μm以上Stepper Mask。
與此同時,掩膜板基材及其石英基板、光刻膠、光學(xué)膜等關(guān)材料同樣被國外企業(yè)壟斷;隨著未來技術(shù)要求的提升,對掩膜板的要求越來越高,也對掩膜板的關(guān)鍵原材提出了更高的要求。
我國掩膜板制造主要集中在少數(shù)企業(yè)和部分科研院所。面板領(lǐng)域,國內(nèi)能夠配套TFT(薄膜晶體管)用掩膜板的企業(yè)只有路維光電和清溢光電,主要針對8.5代以下掩膜板;半導(dǎo)體領(lǐng)域,少數(shù)企業(yè)如無錫華潤、無錫中微等,只能制造0.13μm以上StepperMask;對于HTM(半透膜)、GTM(灰階掩模板)、PSM(先進相移掩模)等掩模板,我國主要依賴進口。
責(zé)任編輯:gt
-
IC
+關(guān)注
關(guān)注
36文章
5990瀏覽量
176324 -
封裝
+關(guān)注
關(guān)注
127文章
8013瀏覽量
143472 -
顯示面板
+關(guān)注
關(guān)注
4文章
220瀏覽量
25207
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
清洗EUV掩膜版面臨哪些挑戰(zhàn)
正性光刻對掩膜版的要求
微流控SU8掩膜版的制作方法
光刻掩膜和光刻模具的關(guān)系
LCD面板主要IC有哪些
導(dǎo)光膜和擴散膜的區(qū)別
光刻掩膜版制作流程
掩膜版與光刻膠的功能和作用
光耦的應(yīng)用領(lǐng)域
微流控光刻掩膜制作
總投資22億元,重慶邁特光電光掩膜版項目預(yù)計年底投產(chǎn)
![總投資22億元,重慶邁特光電光<b class='flag-5'>掩</b><b class='flag-5'>膜</b>版項目預(yù)計年底投產(chǎn)](https://file1.elecfans.com//web2/M00/E6/B4/wKgaomZEfnCAcAbXAAiKqI62l-g149.jpg)
評論