近日，美國商務部工業安全局（BIS）宣布將六項新興技術添加到《出口管理條例》（EAR）的商務部管制清單（CCL）中。美國商務部在官網發布公告中寫道：“此舉是為了支持關鍵及新興技術這一國家戰略”。

據了解，目前受到出口管制的新興技術總數已經達到了37項。

公告指出，最新的商業出口管制是依照2019年12月全體大會上達成的協議——《常規軍備和兩用物品及技術出口管制瓦森納協議》實施的。制定和實施對新興技術的多邊控制符合《2018年出口控制改革法案》（ECRA）的要求后，最終確定管控下列幾項新興和基礎性技術的出口將對美國國家安全起到至關重要的作用。

本次被增列商業管制清單的六項新興技術為：

1.混合增材制造/計算機數控工具；

2.特定的計算光刻軟件；

3.用于為5nm生產精加工晶圓的某些技術；

4.有限的數字取證分析工具；

5.用于監測電信服務通信的某些軟件

6.亞軌道航天器

美國實施出口管制的六大技術，都與芯片制造中最重要的設備光刻機息息相關，尤其是當下5nm芯片已成為高端芯片時代的主流產品，EUV光刻機在半導體制程的重要意義可想而知。

目前全世界唯一能生產EUV光刻機的企業只有荷蘭ASML公司，而ASML最大的兩大股東資本國際集團(MSCI)和貝萊德集團(BlackRock,Inc.)都是美國公司，其用于打造EUV光刻機的高精技術也有不少為美國所持有。

美國商務部此舉相當于直接封鎖了高端芯片的制造技術，針對的是誰不用多說。從目前來看，中國作為美國芯片產品最大的采購國之一，受出口管制影響是巨大的。

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