在電子化程度如此高的現在，人們身邊的電子設備比比皆是，而它們又都離不開芯片。現在芯片制程技術也處于飛速發展的階段，芯片巨頭臺積電和三星都將在今年下半年開始量產3nm制程芯片，2024或2025年實現2nm制程的量產。

目前市面上最先進的是EUV光刻機，而其能夠支持制造的先進制程工藝最高為3nm，也就是說，再往后的2nm等工藝就要用更加先進的光刻機來完成。

ASML為此正在研發一種特別的EUV光刻機——High-NA EUV光刻機。這種光刻機所采用的技術能夠將尺寸降低66%，如此一來芯片的制程又能繼續往前邁步，這種新型光刻機被認為是延續摩爾定律的關鍵。

目前EUV光刻機處于供不應求的狀態，按道理來說更加先進的High-NA光刻機應該更加搶手才對，不過奇怪的是，ASML表示已經收到了來自5家客戶的5個High-NA光刻機訂單，High-NA光刻機貌似沒有想象中的那么火爆。不過這還是連3nm都沒有跨入的時代，可能有些廠商不愿過早購買昂貴的新型光刻機，包括將3nm制程作為重點發展的臺積電也是一樣。

綜合整理自 笨鳥科技 簡叔 百家眾神

審核編輯 黃昊宇