euv光刻機(jī)目前幾納米 中國(guó)5納米光刻機(jī)突破了嗎
大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了。現(xiàn)在，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)，那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢？
到現(xiàn)在，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭ASML的極紫外光刻機(jī)（EUV），這個(gè)是當(dāng)前世界頂級(jí)的光刻機(jī)設(shè)備。
在芯片加工的時(shí)候，光刻機(jī)是用一系列光源能量和形狀控制手段，通過帶有電路圖的掩模傳輸光束。
光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)。是半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)含量最高的設(shè)備。
文章綜合懂視網(wǎng)、CSDN、百度百科
審核編輯：何安
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發(fā)表于 03-21 11:31
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