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微流控芯片的設(shè)計與制備

MEMS ? 來源:麥姆斯咨詢 ? 作者:麥姆斯咨詢 ? 2022-08-17 10:20 ? 次閱讀
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據(jù)麥姆斯咨詢報道,近期,來自鄭州大學(xué)和浙江大學(xué)的研究人員針對磁性微液滴制備不穩(wěn)定問題,通過制備新型微流控芯片,以聚苯乙烯磺酸-四氧化三鐵(PSSA-Fe3O4)為磁性材料,研究微流控芯片不同工藝參數(shù)對制備的磁性微液滴粒徑的影響規(guī)律。相關(guān)研究成果以論文形式發(fā)表于《微納電子技術(shù)》期刊。

微流控芯片的設(shè)計與制備

磁性微液滴是基于微流控技術(shù)制備的,微流道結(jié)構(gòu)尺寸設(shè)計采用L-Edit畫圖軟件完成,設(shè)計的微液滴生成區(qū)域的十字型流道結(jié)構(gòu)及尺寸示意圖如圖1所示,圖中D1為分散相入口微流道寬度,D2為流體出口微流道寬度,D3為連續(xù)相入口微流道寬度,d為制備的磁性微液滴的粒徑。

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圖1 微液滴生成區(qū)域微流道結(jié)構(gòu)設(shè)計示意圖

微流控芯片制備工藝所需模具掩模版的制作示意圖如圖2(a)所示。采用雙電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備在石英玻璃表面鍍一層100nm厚的Cr,然后在鍍Cr層的玻璃板上旋涂AZ1500系列4.4cp型正光阻;再用無掩模激光直寫機在光阻表面曝寫出微流道圖案,然后用AZ400K顯影液顯影,再以Cr的刻蝕液刻蝕出微流道圖案;最后,利用丙酮去除表面光阻得到掩模版,掩模版實物如圖2(b)和(c)所示。而后,研究人員通過掩模版制作SU-8模具,如圖3所示。

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圖2 掩模版的制備流程圖及實物圖

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圖3 微流控芯片的制備流程及實物圖

流速、芯片尺寸以及表面活性劑質(zhì)量分數(shù)對磁性微液滴粒徑的影響規(guī)律

研究人員詳細探究了微流道結(jié)構(gòu)尺寸、分散相與連續(xù)相流速和表面活性劑質(zhì)量分數(shù)對磁性微液滴粒徑的影響規(guī)律,發(fā)現(xiàn)通過控制以上參數(shù)可實現(xiàn)磁性微液滴粒徑的精確可控,并得到以下結(jié)論:

(1)當連續(xù)相流速穩(wěn)定在4.5μL/min時,分散相流速從0.5μL/min遞增到3μL/min,所制備的磁性微液滴的粒徑可控制在34~2μm內(nèi);當分散相流速穩(wěn)定在0.2μL/min時,連續(xù)相流速從1.5μL/min遞增到4.5μL/min,所制備的磁性微液滴的粒徑可控制在28~69μm內(nèi);保持分散相流速不變,在一定范圍內(nèi)連續(xù)相流速越大,磁性微液滴的粒徑越小。

(2)芯片尺寸對磁性微液滴粒徑的影響較大,當分散相入口微流道寬度不變,通過減小流體出口微流道寬度,更容易產(chǎn)生粒徑更小的磁性微液滴;當流體出口微流道寬度不變,通過減小分散相入口微流道寬度,也可產(chǎn)生粒徑更小的磁性微液滴。

(3)當表面活性劑質(zhì)量分數(shù)從15%增加到35%時,保持分散相流速為0.2μL/min不變,連續(xù)相流速從1.5μL/min遞增到4.5μL/min,所制備的磁性微液滴的粒徑可控制在28~83μm內(nèi);提高表面活性劑的質(zhì)量分數(shù)有利于減小磁性微液滴的粒徑。

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圖4 (a)連續(xù)相流速為4.5μL/min時分散相流速與磁性微液滴粒徑的關(guān)系;(b)分散相流速為0.2μL/min時連續(xù)相流速與磁性微液滴粒徑的關(guān)系;(c)4組不同芯片尺寸下的磁性微液滴粒徑與連續(xù)相流速關(guān)系;(d)不同質(zhì)量分數(shù)表面活性劑下連續(xù)相流速與磁性微液滴粒徑的關(guān)系。

綜上所述,研究人員對磁性微液滴制備工藝及粒徑因素進行探究,實驗結(jié)果表明磁性微液滴粒徑精確可控,可為磁性微液滴精確操控提供技術(shù)基礎(chǔ),為細胞等微顆粒的精確分離和篩選提供重要技術(shù)支撐,在醫(yī)學(xué)工程領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價值。

論文鏈接:

http://dx.doi.org/10.13250/j.cnki.wndz.2022.07.014

審核編輯 :李倩

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原文標題:基于微流控技術(shù)的磁性微液滴制備方法

文章出處:【微信號:MEMSensor,微信公眾號:MEMS】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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