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介紹幾種微帶耦合器定向性指標優化措施

工程師鄧生 ? 來源:看圖說RF ? 作者:黃巖島島主 ? 2022-09-16 10:19 ? 次閱讀

上文說到微帶耦合器(通常是指下圖中的裸露式微帶平行雙線耦合器)周圍介質不均勻,奇偶模相速不等:

93d06296-3565-11ed-ba43-dac502259ad0.png

導致定向性指標劣化到5dB左右,可采取5種優化措施。

微帶耦合器定向性指標優化措施1

觀察上圖,埋入式微帶平行雙線耦合器指標優于裸露式,所以很容易想到在裸露式微帶雙線耦合區上方貼一塊介質片。就能讓裸露式變為埋入式,使奇模相速也變慢,自然就提高了定向性指標:

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對比上面左右兩圖的藍色雙箭頭:

左圖的裸露式微帶耦合器定向性指標5dB;

右圖的帶介質貼片的埋入式微帶耦合器定向性指標24dB,優化了19dB,效果明顯。

粘這種貼片介質,早期軍工常用,但現在認為,工程上可操作性不佳。

微帶耦合器定向性指標優化措施2

在微帶耦合器的耦合區貼幾只奇模電容,跨接在平行雙線之間,也會使奇模相速變慢,從而提高定向性指標。

942f801e-3565-11ed-ba43-dac502259ad0.png

對比上面左右兩圖的藍色雙箭頭:

跨接3只貼片0.07pF奇模電容,微帶耦合器定向性指標由左圖5dB也優化到右圖24dB,改善了19dB,效果明顯。

要注意的是:3只0.07pF的電容適用于2GHz頻段的微帶耦合器,0.07pF電容難以找到,而且電容精度影響定向性指標,增加了成本,降低了可靠性。

微帶耦合器定向性指標優化措施3

上面所講的兩種優化措施,在工程上可操作性不好,所以不常用。

真正常用的是將微帶耦合器的耦合線變為鋸齒形或者城墻垛形,以提高定性指標,二者原理上相同,都是減慢奇模相速,本文只仿真分析城墻垛形耦合線。

946d16ae-3565-11ed-ba43-dac502259ad0.png

對比上面左右兩圖的藍色雙箭頭:

將微帶耦合器的耦合線變為城墻垛后,定向性指標由左圖5dB優化到右圖32dB,效果明顯。

這種城墻垛圖形,物料成本為零,所以在工程上很常用。

城墻垛圖形能降低奇模相速,可從下面的對比圖理解。

94bcbb78-3565-11ed-ba43-dac502259ad0.png

奇模成份主要位于平行雙線的間隙內,所以奇模電流(如紅色箭頭線所示)集中于互相靠近的窄邊上,隔河相望,城墻垛形使奇模電流拐彎,增加了路徑,減慢了奇模相速。

下圖仿真了城墻垛的深度對奇模相速的影響:

95230e0a-3565-11ed-ba43-dac502259ad0.png

按照《042_Coupler之五:非均勻介質的微帶窄邊耦合器》中所介紹的方法仿真和計算奇模相速。

仿真的相位如下:

9546e0b4-3565-11ed-ba43-dac502259ad0.png

使用公式V = f * λ 計算相速。

但與上文的計算方法稍微不同的地方在于:

三個mark點對應的相位是0度,換算成絕對相位是360度,即一個波長。

紅色m1對應0.1mil齒深,頻率9.31GHz,奇模相速:

Vem1= 9.31*109 *800mil/秒 =189187900米/秒,相當于真空光速的60%。

藍色m3對應24.1mil齒深,頻率7.44GHz,奇模相速:

Vem3= 7.44*109 *800mil/秒=151180800米/秒,相當于真空光速的一半。

顯然齒越深,奇模相速越慢。

有一點需要說明:奇模仿真模型,隱含了一個鏡面對稱的邊界條件,意味著平行雙線是對稱的城墻垛形。

而工程上只將單邊耦合線變成城墻垛形,所以工程上的單邊城墻垛形奇模相速的仿真計算,必須采用全3D模型,仿真差模相速(略)。理論上差模相速等于奇模相速。

總結

? 在微帶耦合器的耦合區上方粘貼介質片,能優化定向性指標,可操作性不佳。早期工程上常用,現在不用了。

? 在微帶耦合器的耦合區跨接奇模電容,能優化定向性指標,但電容容值很低,不易找到,容值精度影響定向性指標,工程上不常用。

? 將微帶耦合器的耦合線圖形刻成鋸齒形,或改為城墻垛形,物料成本為零,是工程上廣泛使用的措施。

? 這三種定向性優化措施,都是采用減慢奇模相速的方法來實現的。

微帶耦合器,工程上還有兩種常用的定向性優化措施,且看后文分解。




審核編輯:劉清

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