前言
濕法制程工藝即制造過程中需要使用化學藥液的工藝,被廣泛使用于集成電路、平板顯示、太陽能光伏等領域的制造過程中。以集成電路領域為例,晶圓制造過程中,去膠、顯影、刻蝕、清洗都屬于濕法制程是,都離不開濕電子化學品的使用。
隨著我國各行業對芯片需求的日益增長,這類型儀器購買量日益增加。然而市場上濕法制程相關設備基本以非標定制為主,設備體型大,交付時間長、造價高昂,往往忽略了實驗室對場地、成本控制的要求。
華林科納濕電子化學品工作站解決方案
作為在泛半導體濕法制程領域深耕二十年的華林科納,在濕法設備的設計與生產中積累了豐富的經驗,為實驗室用戶精心打造的濕電子化學品工作站,以標準模塊化設計,滿足實驗室在處理濕電子化學品過程中的需求。提供包括勻膠、去膠、顯影、酸洗、堿洗、QDR清洗、超聲波清洗、干燥等功能。特有的智能排風及FFU凈化系統,保障了實驗人員的安全和實驗結果的準確。濕電子化學品工作站標準化生產,造價低、組合靈活,可以滿足集成電路、光伏、液晶顯示等眾多行業及各類研究機構和大學院校的實驗需求,努力為濕法制程研究保駕護航!
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