無需FMM，京東方研發出光刻AMQLED
近日，BOE（京東方）基于量子點直接光刻工藝（direct photolithography of quantum dots in QLED， DP-QLED）開發的4.7英寸650 PPI 主動矩陣量子點發光二極管（AMQLED）顯示樣機驚艷亮相2023 SID國際顯示周，引發業界廣泛關注。
BOE（京東方）這款光刻法AMQLED樣機對比度超過10，000，000 ： 1，色域可達85% BT2020。
BOE（京東方）開發的量子點直接光刻（DP-QLED）工藝，僅需要涂膜、曝光、顯影三步即實現了一種量子點的圖案化；相對于其它光刻圖案化工藝，步驟減少，無需引入附加結構，可有效提升效率、成本可大幅降低。
該工藝無需使用昂貴且制作周期長的精細金屬掩模版（FMM），通過使用成熟度高的曝光光罩，量子點直接光刻（DP-QLED）即可在全尺寸領域范圍內實現高度自由的尺寸與像素密度的規格組合、高度自由的像素排布設計、更高的開口率和器件壽命、更簡單的工藝制程及更靈活、高效的產品開發。
審核編輯 ：李倩
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