??什么是CMOS
??CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)是互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體。CMOS相機(jī)原理框圖如下:
??CMOS相機(jī)主要組成部分是像敏單元陣列和MOS場(chǎng)效應(yīng)管集成電路,這兩部分是集成在同一塊硅片上。也就是是說,每個(gè)像素包括兩個(gè)部分:感光部分 – 像敏單元將光轉(zhuǎn)換成點(diǎn)信號(hào),信號(hào)預(yù)處理部分 – MOS場(chǎng)效應(yīng)管。像素也是排成陣列,與CCD不同,每個(gè)像素都有其X、Y地址,并可分別由兩個(gè)方向的地址譯碼器進(jìn)行選擇;輸出信號(hào)送A/D轉(zhuǎn)換器進(jìn)行模數(shù)轉(zhuǎn)換,變成數(shù)字信號(hào)輸出。
??CMOS相機(jī)像素結(jié)構(gòu)
??CMOS相機(jī)像素結(jié)構(gòu)主要有無源像素圖像傳感器(Passive Pixel Sensor, PPS)和有源像素圖像傳感器(Active Pixel Sensor, APS)兩種。下圖是示意圖
??APS結(jié)構(gòu)像素的放大器具有放大和緩沖功能,光生電子信號(hào)在像素內(nèi)放大,然后用X-Y地址方式讀出。
??光敏二極管可以是CCD相同的MOS電容結(jié)構(gòu)。
??CMOS相機(jī)的像素信號(hào)是先放大-再讀出。
??CCD相機(jī)和CMOS相機(jī)的比較
??相同之處:
??探測(cè)機(jī)理相同,都是利用光電效應(yīng)。
??不同之處:
??1. CCD使用LSI(大規(guī)模集成電路)相差甚遠(yuǎn)的制造工藝,CMOS基于CMOS LSI制造工藝。
??2. CCD入射光產(chǎn)生的信號(hào)電荷未經(jīng)放大,利用CCD耦合機(jī)理轉(zhuǎn)移到輸出電路,在輸出電路放大信號(hào);CMOS在像素內(nèi)就對(duì)入射光產(chǎn)生的信號(hào)電荷進(jìn)行了放大,再利用XY地址方式選擇讀出放大后的信號(hào) – 電壓或電流。CCD需要依次將像素電荷包向移位寄存器移動(dòng),通過移位寄存器輸出信號(hào),轉(zhuǎn)移費(fèi)時(shí),而CMOS像素的信號(hào)直接讀出。相對(duì)而言,CMOS沒有CCD電荷包轉(zhuǎn)移過程引入的轉(zhuǎn)移噪聲。此外,CCD在電荷包轉(zhuǎn)移過程中,容易受到漏光的影響,CMOS直接讀出,轉(zhuǎn)移過程則不受漏光噪聲的影響;
??3. CCD相機(jī)按像素列(或行)排列順序讀出,而CMOS是X-Y地址選擇像素的方式讀出,易于控制;
??4. CCD像素結(jié)構(gòu)比較簡單,CMOS像素結(jié)構(gòu)復(fù)雜:包含光敏MOS、放大器、行選擇開關(guān)(場(chǎng)效應(yīng)管)等。
??性能比較
??由于CMOS靈敏度、分辨率、暗電流、信噪比不如CCD,科學(xué)級(jí)相機(jī),特別是測(cè)弱光,主要還是CCD。
??CCD和CMOS相機(jī)的局限性
??CCD和CMOS的信號(hào)是一定時(shí)間間隔內(nèi)的光電效應(yīng)產(chǎn)生的電子數(shù),是光生電子速率對(duì)時(shí)間的積分。而光生電子速率與光波長和光子流率相關(guān),兩束不同波長的光,當(dāng)波長和光子流率滿足一定的關(guān)系時(shí),光生電子速率相同,因此CCD無法區(qū)分入射光波長,也就是說CCD和CMOS沒有能量分辨能力。
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