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基于不同分光原理的超構(gòu)表面成像光譜芯片的研究進(jìn)展

MEMS ? 來(lái)源:MEMS ? 2023-08-16 09:34 ? 次閱讀

光譜成像具有良好的多維信息獲取能力,廣泛應(yīng)用在食品安全、醫(yī)學(xué)診斷、環(huán)境監(jiān)測(cè)、偽裝識(shí)別及軍事遙感等領(lǐng)域。傳統(tǒng)光譜成像系統(tǒng)受到分光器件的限制,其存在體積大、成本高和集成度低等問(wèn)題。基于新型超構(gòu)表面的成像光譜芯片可為傳感器小型化、低成本提供有效解決方案。隨著光譜分析需求的持續(xù)攀升,加速了超構(gòu)表面成像光譜芯片的快速發(fā)展。

據(jù)麥姆斯咨詢(xún)報(bào)道,近日,長(zhǎng)春理工大學(xué)物理學(xué)院王婷婷、蔡紅星教授領(lǐng)導(dǎo)的團(tuán)隊(duì)在《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》期刊上發(fā)表了以“新型超構(gòu)表面成像光譜芯片研究進(jìn)展”為主題的文章。本文綜述了近年來(lái)超構(gòu)表面成像光譜芯片研究進(jìn)展。在此基礎(chǔ)上,介紹了該團(tuán)隊(duì)最新研究成果,通過(guò)創(chuàng)新設(shè)計(jì)成像光譜芯片體系架構(gòu),可同時(shí)實(shí)現(xiàn)高能量利用率、高空間分辨率、高光譜分辨率,為芯片級(jí)光譜成像系統(tǒng)的應(yīng)用打下良好的基礎(chǔ)。最后論述了成像光譜芯片的發(fā)展趨勢(shì)及應(yīng)用前景,為實(shí)現(xiàn)光譜成像系統(tǒng)小型化提供參考。

基于超構(gòu)表面的相位調(diào)控機(jī)理

基于廣義斯涅耳定律的超構(gòu)表面是哈佛大學(xué)Capasso等于2011年提出的,作為超材料的二維形式,可在二維平面內(nèi)周期性的排列亞波長(zhǎng)單元結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的光場(chǎng)調(diào)控,從而形成平面光學(xué)元件,為先進(jìn)光子器件的集成化與芯片化發(fā)展提供新思路。在基于超構(gòu)表面的成像光譜芯片設(shè)計(jì)過(guò)程中,需要通過(guò)調(diào)控光學(xué)自由度實(shí)現(xiàn)光譜響應(yīng)。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的復(fù)雜多樣性導(dǎo)致了豐富的光學(xué)特性。其中,金屬超構(gòu)表面中等離激元激發(fā)需要滿(mǎn)足特定的波矢匹配條件,因此通過(guò)合理設(shè)計(jì)單元結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)參數(shù)可以改變其相位分布,從而實(shí)現(xiàn)光譜曲線(xiàn)的按需調(diào)控。在超構(gòu)表面近12年的發(fā)展歷程中,逐漸形成了不同的相位調(diào)控機(jī)理,包括傳輸相位和幾何相位,文中對(duì)這兩種類(lèi)型的相位調(diào)控機(jī)理分別進(jìn)行了闡述。

基于超構(gòu)表面的成像光譜芯片

超構(gòu)表面以其平面化和集成化的巨大優(yōu)勢(shì),克服了傳統(tǒng)分光技術(shù)中常用分立元件的尺寸限制,在成像光譜系統(tǒng)中極具吸引力。然而,要想更好地挖掘出基于超構(gòu)表面成像光譜芯片的更大潛力,需要結(jié)合多種不同功能的超構(gòu)表面,發(fā)揮出超構(gòu)表面平面化和集成化的優(yōu)勢(shì),還能實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的成像性能和成像效果。下面將以分光原理為主線(xiàn),對(duì)基于超構(gòu)表面成像光譜芯片的研究進(jìn)行綜述。

色散型成像光譜芯片

色散型成像光譜系統(tǒng),以棱鏡和光柵最為常見(jiàn)。但在芯片化的設(shè)計(jì)方案中,波導(dǎo)光柵結(jié)構(gòu)成為大體積棱鏡的完美替代品。隨著微納制造加工技術(shù)的快速發(fā)展,形成了一系列的色散解決方案,其中包括陣列波導(dǎo)光柵、刻蝕衍射光柵以及超構(gòu)表面等。2018年,美國(guó)加州理工學(xué)院Kavli納米科學(xué)研究所Faraon教授,通過(guò)引入折疊超構(gòu)表面光學(xué)的概念,設(shè)計(jì)了一款芯片級(jí)的近紅外光譜儀,并發(fā)表于Nat.Commun.期刊。在系統(tǒng)中,色散和聚焦光學(xué)元件被放置于一側(cè)玻璃基板上的超構(gòu)表面代替,在兩側(cè)反射鏡的作用下,使光線(xiàn)在基板內(nèi)部傳輸,縮小了系統(tǒng)的尺寸,實(shí)現(xiàn)了1 mm × 1 mm × 7 mm的小體積設(shè)計(jì)。該光譜儀的分辨率約為1.2 nm,工作譜段覆蓋760 ~ 860 nm。基于圖1(a)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),通過(guò)改進(jìn)器件的角響應(yīng),于2019年設(shè)計(jì)出一臺(tái)線(xiàn)掃式高光譜成像儀,光譜范圍為750 ~ 850 nm,光譜分辨率和角分辨率分別約為1.5 nm和0.075°,如圖1(b)所示。系統(tǒng)總體積為8.5 mm3,該系統(tǒng)具備了片上集成芯片級(jí)的分光能力。然而,基于波導(dǎo)光柵的成像光譜芯片,其分辨率依賴(lài)于系統(tǒng)所提供的允許光線(xiàn)傳輸?shù)墓獬涕L(zhǎng)度如圖1(c)所示。因此,高分辨能力與系統(tǒng)的小型化設(shè)計(jì)依然存在著相互制約的關(guān)系,限制了其在極端小型化的應(yīng)用。

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圖1. 基于折疊超構(gòu)表面的高光譜成像儀:(a)設(shè)計(jì)方案;(b)光譜成像系統(tǒng);(c)光線(xiàn)傳輸及器件制備窄帶濾波型成像光譜芯片基于超構(gòu)表面的窄帶濾波型成像光譜芯片,可以選擇性地傳輸特定波長(zhǎng)的光,其光譜分辨率受到光譜通道數(shù)量的限制。其與色散型成像光譜芯片在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和系統(tǒng)集成方面相比更具有優(yōu)勢(shì),規(guī)避了光程長(zhǎng)度對(duì)分辨率的限制,實(shí)現(xiàn)了濾波結(jié)構(gòu)與探測(cè)器的集成。2018年,美國(guó)普渡大學(xué)Kildishev設(shè)計(jì)了一種基于超構(gòu)表面的納米腔結(jié)構(gòu),如圖2(a)所示。該結(jié)構(gòu)借助了法布里-珀羅(FP)干涉原理,如圖2(b)所示。該結(jié)構(gòu)由兩個(gè)厚度為15 nm的銀鏡組成FP光學(xué)腔,并在腔內(nèi)嵌入了厚度為22 nm,周期為150 nm的銀超構(gòu)表面光柵,且超構(gòu)表面與下表面銀鏡被厚度為40 nm的氧化鋁間隔層分開(kāi)。由FP干涉原理可知,通過(guò)改變腔的厚度和腔內(nèi)介質(zhì)的折射率,可以實(shí)現(xiàn)不同波段中心波長(zhǎng)的可控調(diào)諧。而在此基礎(chǔ)上,超構(gòu)表面提供了更多的可調(diào)制自由度,從而能夠?qū)崿F(xiàn)多波段濾波和彩色成像,如圖2(c)所示。同年,瑞士聯(lián)邦理工學(xué)院Altug開(kāi)發(fā)了基于超構(gòu)表面納米光子的中紅外成像系統(tǒng),并將其應(yīng)用于物質(zhì)的化學(xué)鑒定和成分分析,如圖3所示。片上設(shè)計(jì)的電介質(zhì)超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)的每個(gè)共振都被調(diào)諧到離散的頻率上,使分子吸收特征可以在多個(gè)光譜點(diǎn)被讀出。實(shí)現(xiàn)了對(duì)生物、聚合物以及殺蟲(chóng)劑分子的精準(zhǔn)監(jiān)測(cè),展示了超構(gòu)表面在生物傳感和環(huán)境監(jiān)測(cè)等領(lǐng)域中的應(yīng)用潛力。

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圖2. 基于嵌入式超構(gòu)表面的納米腔:(a)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì);(b)原理對(duì)比;(c)成像效果

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圖3. 像素化超構(gòu)表面計(jì)算重構(gòu)型成像光譜芯片計(jì)算重構(gòu)型成像光譜芯片,利用高速的計(jì)算技術(shù)部分替代物理分光元件的工作負(fù)荷,進(jìn)一步縮小成像系統(tǒng)的體積和重量,這已成為未來(lái)片上集成芯片級(jí)成像光譜系統(tǒng)發(fā)展的主要趨勢(shì)。2019年,美國(guó)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校Yu等提出了一種基于光子晶體平板的隨機(jī)光譜儀。將不同周期、晶格常數(shù)和孔尺寸的光子晶體平板集成在CMOS成像傳感器表面,實(shí)現(xiàn)了光譜的探測(cè)和成像光譜系統(tǒng)的構(gòu)建。所設(shè)計(jì)的6 × 6光子晶體結(jié)構(gòu)的光學(xué)圖像,以及3張選定的光子晶體平板結(jié)構(gòu)的電鏡圖像,如圖4(a)所示。該濾波結(jié)構(gòu)的工作光譜范圍為550 ~ 750 nm,光譜分辨率為1 nm。整個(gè)濾波器尺寸為210 μm × 210 μm,體積較小,實(shí)現(xiàn)了片上集成芯片化的設(shè)計(jì)。構(gòu)建的簡(jiǎn)易光譜成像系統(tǒng)成功獲取目標(biāo)的光譜信息,驗(yàn)證了光子晶體平板濾波器的光譜成像能力,如圖4(b)所示。

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圖4. 基于光子晶體平板的計(jì)算重構(gòu)型成像光譜芯片:(a)芯片級(jí)光譜儀的示意圖和光學(xué)圖像以及濾波結(jié)構(gòu)的透射光譜;(b)高光譜成像的驗(yàn)證結(jié)果及重構(gòu)數(shù)據(jù)立方體的空間圖2022年,清華大學(xué)Cui等采用超構(gòu)表面研制出國(guó)際上首款實(shí)時(shí)超光譜成像芯片,相關(guān)研究成果發(fā)表在Optica上。通過(guò)超構(gòu)表面實(shí)現(xiàn)對(duì)入射光在頻譜域的調(diào)制,利用CMOS圖像傳感器完成從頻譜域到電域的映射測(cè)量,再利用壓縮感知算法進(jìn)行光譜的計(jì)算重構(gòu),并通過(guò)超構(gòu)表面的大規(guī)模陣列集成,最終實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)光譜成像,如圖5所示。該款實(shí)時(shí)超光譜成像芯片將單點(diǎn)光譜儀的尺寸縮小到百微米以下,空間分辨率超過(guò)15萬(wàn)光譜像素,可快速獲得每個(gè)像素點(diǎn)的光譜,工作譜段為450 ~ 750 nm,光譜分辨率為0.8 nm。該團(tuán)隊(duì)進(jìn)一步研制出基于自由形狀超原子的超構(gòu)表面光譜成像芯片,突破了傳統(tǒng)規(guī)則形狀的超構(gòu)表面設(shè)計(jì)限制,取得了更優(yōu)異的光譜成像性能,如圖6所示。對(duì)窄帶光譜和寬帶光譜分別進(jìn)行重構(gòu),結(jié)果表明,該超光譜成像芯片能夠?qū)崿F(xiàn)保真度99%以上的寬譜光計(jì)算重構(gòu)以及0.5 nm的波長(zhǎng)分辨率。該項(xiàng)研究進(jìn)一步提升了超構(gòu)表面光譜成像芯片的性能,研究成果發(fā)表于Laser & Photonics Reviews,推動(dòng)了未來(lái)光譜成像芯片的發(fā)展及其在實(shí)時(shí)傳感領(lǐng)域的應(yīng)用。

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圖5. 基于超構(gòu)表面的超光譜成像芯片

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圖6. 基于自由形狀超原子的超表面光譜成像芯片近年來(lái),長(zhǎng)春理工大學(xué)研究團(tuán)隊(duì)針對(duì)目前成像光譜芯片存在能量利用率低、空間分辨率下降大、成本高、工藝復(fù)雜等問(wèn)題。設(shè)計(jì)新型的超構(gòu)表面,基于計(jì)算重構(gòu)光譜學(xué)原理,成功研制了成像光譜芯片。將超構(gòu)表面微納結(jié)構(gòu)與CMOS圖像傳感器相結(jié)合,研制了與現(xiàn)有CMOS的光刻生產(chǎn)相兼容的生產(chǎn)工藝,實(shí)現(xiàn)了成像光譜芯片的量產(chǎn)。在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)階段,通過(guò)選取微納結(jié)構(gòu)材料、優(yōu)化微納結(jié)構(gòu)、選擇探測(cè)器類(lèi)型以及設(shè)計(jì)像素分布方式等研究工作,實(shí)現(xiàn)可定制的成像光譜芯片性能參數(shù)。該團(tuán)隊(duì)優(yōu)化設(shè)計(jì)了I型金屬超構(gòu)表面結(jié)構(gòu),如圖7(a)所示,整體具有能量利用率高、空間分辨率高、光譜分辨率高的優(yōu)點(diǎn),其芯片結(jié)構(gòu)如圖7(b)所示。在工藝制備階段,采用聚焦離子束刻蝕工藝,并引入多層套刻技術(shù),針對(duì)每層光譜調(diào)制材料不同的特性,對(duì)其掩模特性、刻蝕特性以及玻璃基片表面的附著特性進(jìn)行工藝設(shè)計(jì)。最后,在顯微鏡下通過(guò)人工操作的方式實(shí)現(xiàn)該結(jié)構(gòu)與探測(cè)器焦平面的像素級(jí)對(duì)準(zhǔn)貼合,尺寸< 2 cm × 2 cm × 0.5 cm,該結(jié)構(gòu)具有體積小、成本低的優(yōu)點(diǎn)。

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圖7. 基于超構(gòu)表面計(jì)算重構(gòu)技術(shù)的成像光譜芯片:(a)I型金屬超構(gòu)表面結(jié)構(gòu);(b)芯片結(jié)構(gòu)

該團(tuán)隊(duì)研制了多光譜相機(jī),波段范圍為350 ~ 950 nm,像素尺寸為6 μm × 6 μm,空間分辨率為,其在暗光條件下的成像效果與相同襯底的RGB芯片比較如圖8所示。

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圖8. 暗光成像效果比較

總結(jié)和展望以分光技術(shù)為主線(xiàn),介紹了基于不同分光原理的超構(gòu)表面成像光譜芯片的研究進(jìn)展。近幾年,超構(gòu)表面的研究在理論建模和微納制造方面都取得了重大進(jìn)展。超構(gòu)表面可在亞波長(zhǎng)尺度內(nèi)實(shí)現(xiàn)對(duì)光場(chǎng)的靈活調(diào)控,且兼具傳統(tǒng)光學(xué)元件無(wú)法比擬的平面化和低損耗的優(yōu)點(diǎn),超構(gòu)表面為解決成像光譜系統(tǒng)的集成化、芯片化設(shè)計(jì)提供了有效的技術(shù)途徑。盡管現(xiàn)有基于超構(gòu)表面的成像光譜芯片已在多個(gè)領(lǐng)域中發(fā)揮巨大作用,但在芯片級(jí)的成像光譜系統(tǒng)中,同時(shí)實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的高能量利用率、高空間分辨率、高光譜分辨率依然存在著巨大的挑戰(zhàn)。

綜上所述,色散型和窄帶濾波型,實(shí)質(zhì)上是按比例縮小傳統(tǒng)的光譜系統(tǒng),各自存在著局限性。色散型超構(gòu)表面光譜成像系統(tǒng)具有復(fù)雜的光路設(shè)計(jì)和龐大的元件體積,在片上集成芯片級(jí)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,可靠性并不高。色散型成像光譜系統(tǒng)的光譜分辨率嚴(yán)重依賴(lài)光程長(zhǎng)度,阻礙其進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)小型化。在眾多的芯片化解決方案中,應(yīng)用較多的是窄帶濾波型技術(shù)。窄帶濾波型的光譜分辨率可通過(guò)工作帶寬下濾波通道的數(shù)量來(lái)衡量。在一定工作帶寬下,濾波通道數(shù)量越多,光譜分辨率越高。然而,濾波型超構(gòu)表面光譜成像技術(shù)更適用于低光譜分辨率的成像探測(cè)系統(tǒng)。獲取單一光譜信息需要一個(gè)窄帶濾波結(jié)構(gòu)以形成光譜濾波通道。然而應(yīng)對(duì)高分辨率需求時(shí),成像系統(tǒng)必須使用帶寬更窄和數(shù)量更多的濾波結(jié)構(gòu),這使得系統(tǒng)難以實(shí)現(xiàn)小型化,因此同時(shí)獲取高空間分辨率和高光譜分辨率是存在矛盾的。此外,窄帶濾波結(jié)構(gòu)僅能夠接收中心波長(zhǎng)的光,增加濾波結(jié)構(gòu)的數(shù)量也會(huì)極大地降低系統(tǒng)的光能量利用率,從而導(dǎo)致信噪比降低,成像效果難以滿(mǎn)足實(shí)際應(yīng)用需求。

隨著計(jì)算機(jī)科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展,計(jì)算機(jī)算法和光學(xué)領(lǐng)域的交叉融合得到了深入的探索,光學(xué)算法的發(fā)展降低了光譜成像系統(tǒng)對(duì)硬件的需求,并使得其成像性能得到了極大的提升。近年來(lái),將超構(gòu)表面與壓縮感知算法相結(jié)合的計(jì)算重構(gòu)型光譜成像探測(cè)系統(tǒng)被廣泛研究,該系統(tǒng)利用超構(gòu)表面的寬帶濾波特性可對(duì)光譜信號(hào)進(jìn)行采集。具有不同的寬帶光譜響應(yīng)特性的濾波結(jié)構(gòu),可以接收更寬范圍的光譜信號(hào),從而提升光能量利用率,有效提高系統(tǒng)的信噪比。在現(xiàn)有基于超構(gòu)表面的光譜成像系統(tǒng)中,超構(gòu)表面的透射光譜響應(yīng)被用作壓縮感知過(guò)程的測(cè)量矩陣。然而,測(cè)量矩陣一般為隨機(jī)矩陣,因此對(duì)超構(gòu)表面的設(shè)計(jì)通常采用“大量生產(chǎn)—隨機(jī)挑選”的方法,該方法無(wú)法保證光譜重構(gòu)的保真度。此外,寬帶濾波的設(shè)計(jì)會(huì)加寬透射光譜,極易導(dǎo)致波段之間彼此混疊,產(chǎn)生嚴(yán)重的圖像串?dāng)_,成像色差大,無(wú)法滿(mǎn)足實(shí)際的應(yīng)用需求。

因此,在未來(lái)超構(gòu)表面成像光譜芯片的發(fā)展上,將面臨新的考驗(yàn),要實(shí)現(xiàn)光譜成像系統(tǒng)的小型化、芯片化、集成化、低成本,還要綜合評(píng)估芯片級(jí)成像光譜系統(tǒng)的性能,使其達(dá)到高能量利用率、高空間分辨、高光譜分辨率的性能指標(biāo)要求,向標(biāo)準(zhǔn)化和通用化方向邁進(jìn)。未來(lái),超構(gòu)表面成像光譜芯片將有望真正進(jìn)入掌上時(shí)代,深度融入日常生活,在食品安全、移動(dòng)健康等方面展現(xiàn)出其獨(dú)特的魅力。更有望為尖端裝備裝上“中國(guó)芯”,實(shí)現(xiàn)裝備的小型化和輕量化。

責(zé)任編輯:彭菁

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    發(fā)表于 05-28 07:12

    技術(shù) | 構(gòu)材料紅外探測(cè)芯片研究進(jìn)展

    在梳理構(gòu)材料的概念與發(fā)展歷程的基礎(chǔ)上,著重分析了構(gòu)材料對(duì)波長(zhǎng)、偏振態(tài)、相位等電磁波參量的調(diào)控作用。
    的頭像 發(fā)表于 07-23 17:04 ?4524次閱讀

    簡(jiǎn)述關(guān)于構(gòu)表面在量子光學(xué)中的應(yīng)用

    構(gòu)表面的量子光學(xué)的研究進(jìn)展,包括量子光源的制備、量子態(tài)的調(diào)控以及量子態(tài)的探測(cè)和成像等方面。 01 引 言 光在我們的日常生活中扮演著非常重要的角色,幾乎影響到我們生活的各個(gè)方面。自古以
    的頭像 發(fā)表于 06-11 15:11 ?4666次閱讀

    無(wú)人機(jī)載高光譜成像設(shè)備的研究及應(yīng)用進(jìn)展

    無(wú)人機(jī)載高光譜成像設(shè)備因其機(jī)動(dòng)靈活、操作簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn),被應(yīng)用于諸多研究領(lǐng)域,具有廣泛的發(fā)展前景。本文對(duì)當(dāng)前無(wú)人機(jī)載高光譜成像設(shè)備的相關(guān)研究進(jìn)展進(jìn)行了系統(tǒng)的總結(jié)和評(píng)述。首先,基于高
    的頭像 發(fā)表于 05-05 10:19 ?6709次閱讀
    無(wú)人機(jī)載高<b class='flag-5'>光譜成像</b>設(shè)備的<b class='flag-5'>研究</b>及應(yīng)用<b class='flag-5'>進(jìn)展</b>

    清華大學(xué)突破光譜成像芯片技術(shù)

    技術(shù)研究不能停留在理論,還應(yīng)該走向?qū)嶋H。關(guān)于這一點(diǎn),清華大學(xué)研究團(tuán)隊(duì)也進(jìn)行了實(shí)際測(cè)試。研究團(tuán)隊(duì)將實(shí)時(shí)光譜成像
    的頭像 發(fā)表于 06-06 10:22 ?2428次閱讀

    表面實(shí)時(shí)光譜成像芯片的作用

    光譜是物質(zhì)的“指紋”,能夠揭示物質(zhì)的組分和含量。光譜成像可以獲取成像視場(chǎng)內(nèi)各像素點(diǎn)的光譜,為智能感知開(kāi)拓了一個(gè)新的信息維度。
    的頭像 發(fā)表于 01-13 16:06 ?1427次閱讀

    結(jié)IGBT的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)及研究進(jìn)展

    結(jié)IGBT的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)及研究進(jìn)展
    發(fā)表于 08-08 10:11 ?4次下載

    基于表面實(shí)時(shí)光譜成像芯片研究進(jìn)展

    基于空間掃描或波長(zhǎng)掃描的傳統(tǒng)光譜成像設(shè)備體積龐大,無(wú)法獲取動(dòng)態(tài)的光譜信息。
    的頭像 發(fā)表于 08-12 09:35 ?1867次閱讀
    基于<b class='flag-5'>超</b><b class='flag-5'>表面</b>實(shí)時(shí)<b class='flag-5'>超</b><b class='flag-5'>光譜成像</b><b class='flag-5'>芯片</b>的<b class='flag-5'>研究進(jìn)展</b>

    新型構(gòu)表面成像光譜芯片研究進(jìn)展

    光譜成像具有良好的多維信息獲取能力,廣泛應(yīng)用在食品安全、醫(yī)學(xué)診斷、環(huán)境監(jiān)測(cè)、偽裝識(shí)別及軍事遙感等領(lǐng)域。
    的頭像 發(fā)表于 08-16 09:35 ?1080次閱讀
    新型<b class='flag-5'>超</b><b class='flag-5'>構(gòu)</b><b class='flag-5'>表面</b><b class='flag-5'>成像</b><b class='flag-5'>光譜</b><b class='flag-5'>芯片</b><b class='flag-5'>研究進(jìn)展</b>

    偏振三維成像技術(shù)的原理和研究進(jìn)展

    目標(biāo)表面鏡面反射光與漫反射光間的相互干擾,造成高精度偏振三維成像實(shí)現(xiàn)困難。該綜述介紹了偏振三維成像物理機(jī)理、目標(biāo)表面出射光偏振特性,以及偏振三維成像
    的頭像 發(fā)表于 10-26 09:50 ?1519次閱讀
    偏振三維<b class='flag-5'>成像</b>技術(shù)的原理和<b class='flag-5'>研究進(jìn)展</b>

    動(dòng)態(tài)可調(diào)諧表面研究進(jìn)展與應(yīng)用

    表面能夠?qū)﹄姶挪ǖ钠瘛⒄穹拖辔坏任锢韰⒘窟M(jìn)行前所未有的調(diào)控,微納加工技術(shù)的發(fā)展進(jìn)一步推動(dòng)了表面在顯示、成像、傳感、防偽、光場(chǎng)調(diào)控等領(lǐng)
    的頭像 發(fā)表于 11-16 09:16 ?1950次閱讀
    動(dòng)態(tài)可調(diào)諧<b class='flag-5'>超</b><b class='flag-5'>表面</b>的<b class='flag-5'>研究進(jìn)展</b>與應(yīng)用

    快照高光譜成像構(gòu)光學(xué)+小數(shù)據(jù)凸優(yōu)化/深度學(xué)習(xí)理論

    研究不使用濾波器構(gòu)建彩色物體多光譜圖像的主要思想,是利用多共振構(gòu)原子作為構(gòu)
    的頭像 發(fā)表于 11-29 16:55 ?832次閱讀
    快照高<b class='flag-5'>光譜成像</b>:<b class='flag-5'>超</b><b class='flag-5'>構(gòu)</b>光學(xué)+小數(shù)據(jù)凸優(yōu)化/深度學(xué)習(xí)理論

    采用單片構(gòu)表面與元注意力網(wǎng)絡(luò)實(shí)現(xiàn)快照式近紅外光譜成像

    日前,北京理工大學(xué)王涌天教授、黃玲玲教授團(tuán)隊(duì)聯(lián)合張軍院士、邊麗蘅教授團(tuán)隊(duì),采用單片構(gòu)表面與元注意力網(wǎng)絡(luò)實(shí)現(xiàn)快照式近紅外光譜成像
    的頭像 發(fā)表于 04-25 09:08 ?1240次閱讀
    采用單片<b class='flag-5'>超</b><b class='flag-5'>構(gòu)</b><b class='flag-5'>表面</b>與元注意力網(wǎng)絡(luò)實(shí)現(xiàn)快照式近紅外<b class='flag-5'>光譜成像</b>
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