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碳化硅外延片全球首個SEMI國際標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布,瀚天天成主導(dǎo)

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-08-24 10:37 ? 次閱讀

國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(semi)正式公布了世界最早的“碳化硅半導(dǎo)體外延晶片全球首個semi國際標(biāo)準(zhǔn)——《4H-SiC同質(zhì)外延片標(biāo)準(zhǔn)》 (specification for 4h-sic homoepitaxial wafer)”。該標(biāo)準(zhǔn)由瀚天天成電子科技(廈門)股份有限公司主導(dǎo)編寫,中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所,株洲中車時代電氣股份有限公司,wolfspeed等12家公司參與編寫,歷時3年。

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據(jù)了解,《4H-SiC同質(zhì)外延片標(biāo)準(zhǔn)》這一國際標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)布和實施,將在規(guī)范國際硅電石半導(dǎo)體外延行業(yè)有序發(fā)展,在降低國際貿(mào)易合作成本,加快新技術(shù)全球推廣等方面具有深遠(yuǎn)意義。

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