光刻技術(shù)通過(guò)光刻膠將圖案成功轉(zhuǎn)移到硅片上，但是在相關(guān)制程結(jié)束后就需要完全除去光刻膠，那么這個(gè)時(shí)候去膠液就發(fā)揮了作用，那么去膠液都有哪些種類(lèi)？去膠原理是什么？

濕法去膠液的種類(lèi)有哪些？ 常見(jiàn)的濕法去膠液分為四種類(lèi)型：堿性去膠液，酸性去膠液，溶劑型去膠液，混合型去膠液。

堿性去膠液

光刻膠主要由有機(jī)聚合物組成，有大量的酯鍵、醚鍵等化合鍵，在堿性條件下，這些化學(xué)鍵可以被斷裂，導(dǎo)致光刻膠分子的分解。

當(dāng)光刻膠分子被分解或其分子量降低到一定程度時(shí)，其在堿性去膠液中的溶解性增加，從而被溶解并從晶圓上去除。

另一方面，光刻膠中含有某些酸性部分，如酸性光引發(fā)劑。

在堿性環(huán)境中，這些酸性部分會(huì)被中和，進(jìn)一步破壞光刻膠的結(jié)構(gòu)。

堿性去膠常用化學(xué)品為KOH，NaOH，性能強(qiáng)勁，無(wú)膠不摧，無(wú)膠不破，快速，經(jīng)濟(jì)，但是有一個(gè)致命弱點(diǎn)：鈉離子，鉀離子是常見(jiàn)可動(dòng)離子污染。

酸性去膠液

一般會(huì)使用濃硫酸或濃硫酸+雙氧水。 當(dāng)硫酸與過(guò)氧化氫結(jié)合使用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生具有強(qiáng)氧化性的硫酸氫根（HSO??）和羥基自由基（OH·）。

這些氧化劑可以氧化光刻膠中的有機(jī)物質(zhì)，使其轉(zhuǎn)化為更易溶于水的低分子量化合物。

此外，羥基自由基也可以引發(fā)光刻膠聚合物鏈的斷裂，從而降低其分子量。

酸性去膠液也有其致命弱點(diǎn)，就是對(duì)下層金屬也不友好，它能除膠，更能能除去很多種類(lèi)的金屬，只可在某些特定領(lǐng)域使用。

溶劑型去膠液

去膠液的溶劑分子通過(guò)擴(kuò)散作用滲透到光刻膠層中。這些溶劑分子通過(guò)物理吸附與光刻膠分子之間的相互作用開(kāi)始進(jìn)入光刻膠的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)中。

隨著時(shí)間的推移，溶劑分子會(huì)進(jìn)一步與光刻膠分子相互作用，導(dǎo)致它們之間的化學(xué)鍵逐漸斷裂。

由于溶劑對(duì)光刻膠分子的溶解作用，光刻膠的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)逐漸被破壞，從而使其結(jié)構(gòu)疏松并最終完全去除。

缺點(diǎn)：速率慢，易揮發(fā)。

優(yōu)點(diǎn)：溫和，對(duì)晶圓無(wú)損傷。

混合型去膠液

整合了上述三種去膠液的優(yōu)勢(shì)，將其中某兩種結(jié)合而成。一般是堿性+表面活性劑居多。既彌補(bǔ)了溶劑型去膠液去膠速率慢的劣勢(shì)，又解決了堿性去膠液對(duì)底層金屬的傷害問(wèn)題。

但是，他也有缺點(diǎn)，讓堿性溶液與溶劑很和諧地融合在一起，又是一個(gè)難題。如果處理不到，會(huì)出現(xiàn)分層的問(wèn)題。

沒(méi)有缺點(diǎn)的去膠液是沒(méi)有的，只有取其優(yōu)點(diǎn)，規(guī)避其缺點(diǎn)，才是合格的去膠液。

審核編輯：劉清