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光時(shí)域反射儀(OTDR)測試中常見曲線的分析(下)

冬至子 ? 來源:Lcom諾通 ? 作者:Lcom諾通 ? 2023-11-24 11:24 ? 次閱讀

接上一篇,下篇我們將主要介紹外部因素下對測試曲線的影響,以及波紋曲線所呈現(xiàn)的實(shí)際含義。

一、外部因素引起的可能曲線變化

這里的外部因素指施加于光纜并傳遞至光纖的張力及側(cè)向受力,還有溫度的變化。這些都會(huì)造成曲線弓形彎曲。外部因素引起的弓形彎曲在外力作用下使曲線斜率改變。如圖所示,外力作用前曲線斜率恒定,在外力作用下可出現(xiàn)如下情況之一:

二、波紋曲線圖

指曲線有與脈沖頻率相似的紋狀態(tài)曲線。其產(chǎn)生原因有可能是受測光纖工作頻率與帶寬頻率剛好相同,此情況下, 改變測試脈寬,同時(shí)應(yīng)從受測光纖的兩端進(jìn)行測量。

三、實(shí)際在測試中最常見的異常曲線、原理和對策

現(xiàn)象:光纖未端無菲涅爾反射峰,曲線斜率、衰減正常,無法確認(rèn)光纖長度。

原因:光纖未端面上比較臟或光纖端面質(zhì)量差。

對策:清洗光纖未端面或重新做端面。

現(xiàn)象:曲線成明顯弓形,衰減嚴(yán)重偏大或偏小,無菲涅爾反射峰。

原因:量程設(shè)置錯(cuò)誤(不足被測光纖長度2倍以上)。

對策:增大量程。

現(xiàn)象:在曲線斜率恒定的曲線中間有一個(gè)“小山峰”(背向散射劇烈增強(qiáng)所致)。

原因:

(1)光纖本身質(zhì)量原因(小裂紋);

(2)二次反射余波在前端面產(chǎn)生反射。

對策:在這種情況下改變光纖測試量程、脈寬、重新做端面,再測試如“小山峰”消失則為原因(2),如不消失則為原因(1) 。

現(xiàn)象:在光纖纖連接器耦合器、熔接點(diǎn)處產(chǎn)生一個(gè)明顯的增益。。

原因:模場直徑不匹配造成的;

對策:測試衰減和接頭損耗必須雙向測試,取平均值。

現(xiàn)象:曲線斜率正常,光纖均勻性合格,但兩端光纖衰減系數(shù)相差很大。

原因:模場不均勻造成,一般為光纖拉絲引頭和結(jié)尾部分。

對策:測試衰減必須雙向測試,取平均值。

現(xiàn)象:在整根光纖衰減合格,曲線大部分斜率均勻,但在菲涅爾反射峰前沿有一小凹陷。

原因:未端幾米或幾十米光纖受側(cè)壓。

對策:復(fù)繞觀察有無變化。

現(xiàn)象:1310nm光纖曲線平滑,光纖衰減斜率基本不變,衰減指標(biāo)略微偏高,但1550nm光纖衰減斜率增加,衰減指標(biāo)偏高。

原因:束管內(nèi)余長過短,光纖受拉伸。

對策:確認(rèn)束管內(nèi)的余長,增加束管內(nèi)的余長 。

現(xiàn)象:1310nm光纖曲線平滑,光纖衰減斜率基本正常,衰減指標(biāo)正常,但1550nm光纖衰減斜率嚴(yán)重不良,衰減指標(biāo)嚴(yán)重偏高。

原因:束管內(nèi)余長過長,光纖彎曲半徑過小。

對策:確認(rèn)束管內(nèi)的余長,減少束管內(nèi)的余長。

現(xiàn)象:尾纖與過渡纖有部分曲線出現(xiàn)有規(guī)則的曲線不良,但被測光纖后半部分曲線正常,整根被測光纖衰減指標(biāo)基本正常。

原因:一般是由設(shè)備本身和測試方法綜合造成的。

對策:關(guān)機(jī),重新起動(dòng),對各個(gè)光纖接觸部分進(jìn)行清潔。

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