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英特爾20A、18A工藝流片,臺(tái)積電面臨挑戰(zhàn)

牛牛牛 ? 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2023-12-20 17:28 ? 次閱讀

臺(tái)積電一直被譽(yù)為國(guó)際芯片市場(chǎng)的“代工一哥”,擁有市場(chǎng)上最先進(jìn)的3nm工藝,并且占據(jù)了60%以上的代工市場(chǎng)。然而,最新的消息顯示,英特爾Intel 20A和Intel 18A工藝(相當(dāng)于2nm和1.8nm工藝)已經(jīng)開(kāi)始流片。

英特爾的Intel 20A和Intel 18A工藝已經(jīng)開(kāi)始流片,意味著量產(chǎn)階段已經(jīng)不遠(yuǎn)。而2nm工藝和1.8nm工藝的先進(jìn)程度無(wú)疑已經(jīng)超過(guò)了三星和臺(tái)積電的3nm工藝。這使得英特爾在芯片制造技術(shù)上取得了重大突破,有可能超越臺(tái)積電成為新的“代工一哥”。

英特爾本月發(fā)布應(yīng)用Intel 4工藝的Meteor Lake酷睿Ultra處理器時(shí),也發(fā)布了后續(xù)產(chǎn)品的路線圖。根據(jù)路線圖,英特爾將在明年進(jìn)入20A(2納米)時(shí)代,15代酷睿Arrow Lake處理器將肩負(fù)重振英特爾名望的重任,再過(guò)一年傳說(shuō)中的“1.8nm”消費(fèi)級(jí)芯片也將初露端倪。

突然推出的英特爾20A、英特爾18A流片無(wú)疑會(huì)給臺(tái)積電帶來(lái)巨大壓力。鑒于臺(tái)積電和三星眼下還在努力推進(jìn)3nm工藝的量產(chǎn),這意味著接近明年底的某個(gè)時(shí)刻,英特爾將成為應(yīng)用工藝制程最先進(jìn)的代工廠。一旦過(guò)了量產(chǎn)關(guān),英特爾就將一往無(wú)前,取得重大優(yōu)勢(shì)。

未來(lái),這兩家公司之間的競(jìng)爭(zhēng)將更加激烈。

審核編輯:黃飛

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