北方華創(chuàng)微電子裝備公司半導(dǎo)體工藝設(shè)備傳輸腔室專利公示
根據(jù)天眼查數(shù)據(jù)，北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司‘半導(dǎo)體工藝設(shè)備及其傳輸腔室’的相關(guān)專利已于2024年4月5日公開(kāi)，公開(kāi)號(hào)為CN117832049A。
此項(xiàng)專利主要涉及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域的設(shè)備改進(jìn)，包含腔室主體、機(jī)械手和環(huán)狀體等部件。其中，機(jī)械手的固定端與腔室主體的底壁緊固銜接；而環(huán)狀體則呈環(huán)繞狀布置在腔室主體底部，并圍繞著機(jī)械手的旋轉(zhuǎn)軸組件。此外，環(huán)狀體內(nèi)還設(shè)有多個(gè)氣體通道，以便向旋轉(zhuǎn)軸組件噴射惰性氣體。
通過(guò)這種設(shè)計(jì)，可以確保機(jī)械手的旋轉(zhuǎn)軸組件在任何角度下都能得到惰性氣體的充分吹掃，從而有效防止工藝氣體殘留在旋轉(zhuǎn)軸組件內(nèi)部的磁流體密封結(jié)構(gòu)中，進(jìn)一步保障了磁流體密封結(jié)構(gòu)的密封效果和機(jī)械手的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。
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