近日,SK海力士與臺(tái)積電宣布達(dá)成合作,計(jì)劃量產(chǎn)下一代HBM(高帶寬內(nèi)存)。在這項(xiàng)合作中,臺(tái)積電將主導(dǎo)基礎(chǔ)芯片的前端工藝(FEOL)和后續(xù)布線工藝(BEOL),確保基礎(chǔ)芯片的質(zhì)量與性能。而SK海力士則負(fù)責(zé)晶圓測(cè)試和HBM的堆疊工作,確保產(chǎn)品的最終品質(zhì)與可靠性。
此次合作體現(xiàn)了半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈的深度合作趨勢(shì)。臺(tái)積電憑借其在7nm制程技術(shù)上的優(yōu)勢(shì),將助力SK海力士打造更高性能的HBM產(chǎn)品。業(yè)界預(yù)測(cè),SK海力士將通過(guò)臺(tái)積電的先進(jìn)制程技術(shù),制造出更先進(jìn)的HBM4基片,以滿足市場(chǎng)對(duì)高性能計(jì)算、數(shù)據(jù)中心等領(lǐng)域日益增長(zhǎng)的需求。
這一合作不僅有助于提升雙方的技術(shù)實(shí)力和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力,還將為整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展注入新的活力。
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