日本住友重工將推出SiC離子注入機
住友重工離子技術公司，作為住友重工的子公司，計劃在2025年向市場推出專為碳化硅（SiC）功率半導體設計的離子注入機。SiC制程雖與硅生產線有諸多相似之處，但由于其高硬度等獨特性質，對生產設備提出了特殊要求。
高溫離子注入機、碳膜濺射儀及高溫退火爐等設備在SiC生產中扮演著關鍵角色。特別是高溫離子注入機，已成為衡量SiC生產線水平的重要標志。住友重工的這一創新技術，不僅將推動SiC半導體制造技術的進步，更有望促進整個半導體行業的發展。
隨著新材料的不斷涌現，傳統的生產設備已無法滿足日益增長的技術需求。住友重工的這項突破，正是為了解決這一難題。未來，隨著SiC離子注入機的推出，我們有望看到更高效、更穩定的SiC功率半導體問世，為電子科技領域注入新的活力。住友重工的這一步，無疑將為全球半導體產業帶來新的發展機遇。
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