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英特爾3nm制程工藝“Intel 3”投入大批量生產(chǎn)

CHANBAEK ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-06-21 09:31 ? 次閱讀
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據(jù)外媒最新報(bào)道,全球知名處理器大廠英特爾在周三宣布了一個(gè)重要的里程碑:其先進(jìn)的3nm級(jí)制程工藝技術(shù)“Intel 3”已在兩個(gè)工廠正式投入大批量生產(chǎn)。這一技術(shù)的突破,無疑將為英特爾在超高性能計(jì)算領(lǐng)域帶來顯著優(yōu)勢(shì)。

Intel 3制程工藝技術(shù)的推出,標(biāo)志著英特爾在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的又一次飛躍。該技術(shù)帶來了更高的性能和更高的晶體管密度,使得處理器在性能上有了顯著提升。同時(shí),Intel 3還支持1.2V電壓,相比之前的Intel 4制程工藝,性能提升了18%,這使得它特別適用于超高性能應(yīng)用。

英特爾表示,Intel 3制程工藝技術(shù)不僅面向自家的產(chǎn)品,同時(shí)也為代工客戶提供服務(wù)。這一技術(shù)的廣泛應(yīng)用,將有助于推動(dòng)整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的進(jìn)步。

值得一提的是,Intel 3制程工藝技術(shù)還將在未來幾年內(nèi)繼續(xù)演進(jìn),推出多個(gè)新的版本。其中包括Intel 3-T、Intel 3-E以及Intel 3P-T等,這些新版本將進(jìn)一步完善和優(yōu)化Intel 3的技術(shù)特性,為用戶提供更加卓越的性能體驗(yàn)。

英特爾的這一重大進(jìn)展,再次彰顯了其在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。隨著Intel 3制程工藝技術(shù)的廣泛應(yīng)用和不斷演進(jìn),我們有理由相信,英特爾將繼續(xù)引領(lǐng)全球半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展潮流。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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