來(lái)源：《半導(dǎo)體芯科技》雜志文章

近幾十年來(lái)，半導(dǎo)體行業(yè)取得了巨大進(jìn)步，在我們的現(xiàn)代世界中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。濕法工藝設(shè)備是生產(chǎn)高質(zhì)量半導(dǎo)體器件的關(guān)鍵部分。AP&S 公司生產(chǎn)濕法工藝系統(tǒng)已有 20 年歷史，這些系統(tǒng)對(duì)于晶片的清潔和加工處理是不可或缺的。本文介紹AP&S公司的最新開(kāi)發(fā)成果：用于批量加工的NexAStep 濕式蝕刻清洗系統(tǒng)。

AP&S 攜創(chuàng)新型 NexAStep 濕法蝕刻清洗系統(tǒng)在德國(guó)慕尼黑舉辦的半導(dǎo)體展覽會(huì) SEMICON Europa 2023 亮相，吸引了行業(yè)的關(guān)注，為了幫助客戶應(yīng)用此最新成果，AP&S 學(xué)院同時(shí)可以進(jìn)行相關(guān)培訓(xùn)。

NexAStep 所采用的創(chuàng)新緊湊型系統(tǒng)設(shè)計(jì)是一項(xiàng)根本性的進(jìn)步，由于系統(tǒng)占用的空間較小，因此可以優(yōu)化潔凈室的使用。在模塊占地面積內(nèi)有效地布置化學(xué)品供應(yīng)、排水、接收罐和控制柜，進(jìn)一步減少了空間需求，并方便了維護(hù)和操作。模塊化工廠設(shè)計(jì)（modular plant design）可以實(shí)現(xiàn)工廠的快速組裝、拆卸和重新配置，從而提高了生產(chǎn)過(guò)程中的靈活性。這樣，公司就能在有必要的時(shí)候迅速適應(yīng)市場(chǎng)變化，并在需要時(shí)擴(kuò)大工廠規(guī)模以增加產(chǎn)能。

△濕式蝕刻清洗系統(tǒng) NexAStep - 用于量產(chǎn)濕法加工的新型批量處理工具

位于 NexAStep前端的集成軸最大程度地減少了粒子的產(chǎn)生，并簡(jiǎn)化了直接接入（direct access）。在外觀上看，集成在鑲板上的信號(hào)燈提供了 180 度的可視性，可以改善接入和安全性。

此外，AP&S 還與其姊妹公司 tepcon GmbH 一起擁有一家軟件公司，協(xié)助實(shí)現(xiàn)用戶友好型直觀人機(jī)界面（HMI）。簡(jiǎn)化系統(tǒng)操作、優(yōu)化監(jiān)控和有效控制是此處的主要關(guān)注點(diǎn)。這確保了高效的過(guò)程控制。

tepcon GmbH 總經(jīng)理 Christoph Kluge 解釋說(shuō)：“在狀態(tài)監(jiān)測(cè)領(lǐng)域，我們的解決方案可以通過(guò)表格、圖形或流程圖對(duì)實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)提供可配置的可視化，對(duì)極限值進(jìn)行監(jiān)測(cè)，并通過(guò)電子郵件、短信或WhatsApp 及時(shí)發(fā)出警報(bào)。客戶可以隨時(shí)隨地通過(guò)移動(dòng)設(shè)備靈活地實(shí)施干預(yù)。能夠?qū)崟r(shí)避免機(jī)器故障。通過(guò)分析過(guò)程數(shù)據(jù)，可以記錄和跟蹤生產(chǎn)配方。而通過(guò)與歷史數(shù)據(jù)進(jìn)行比較，則可以發(fā)現(xiàn)操作錯(cuò)誤，從而優(yōu)化配方工藝并高效地規(guī)劃服務(wù)調(diào)用。”

由于采用自動(dòng)控制和自動(dòng)裝載實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)能，這也在技術(shù)的選擇中起到了重要的作用。通過(guò)使用 OHT（Overhead Hoist Transport，高架提升傳輸），可以將該系統(tǒng)集成到現(xiàn)有的復(fù)雜工藝鏈中，從而加快晶圓載具的傳輸速度。由此而在濕法工藝系統(tǒng)中形成的集成倉(cāng)庫(kù)（integrated warehouse）具有多達(dá) 75 個(gè)儲(chǔ)存位置，從而保證了生產(chǎn)流程的連續(xù)性。

△多達(dá) 75 個(gè)儲(chǔ)存位置保證了生產(chǎn)流程的連續(xù)性

NexAStep 具有多達(dá) 12 個(gè) LMC 晶圓載具，不間斷地提供晶圓，每個(gè)載具可容納2×100 片晶圓（8 英寸），因此，支持一種連續(xù)和預(yù)定的工藝生產(chǎn)流程。這樣，在占地面積不變的情況下，AP&S 將生產(chǎn)量提高了一倍，并顯著降低了總擁有成本（相同的化學(xué)成分，生產(chǎn)量提高了一倍）。

△多達(dá) 12 個(gè) LMC 晶圓載具，每個(gè)載具可容納2×100片晶圓（8英寸），可以實(shí)現(xiàn)高效加工處理

AP&S 首席營(yíng)銷官兼首席技術(shù)官Tobias Bausch 表示：“憑借新的 NexAStep 工廠平臺(tái)，我們就能夠在一間工廠里將 AP&S 在過(guò)去 20年中積累的所有正面經(jīng)驗(yàn)與當(dāng)前的客戶和市場(chǎng)需求結(jié)合起來(lái)。濕法工藝工廠工程的‘自動(dòng)化、生產(chǎn)量和功能性’將更上一層樓。能夠在第一批工廠的現(xiàn)場(chǎng)生成數(shù)據(jù)，并看到新概念為我們和客戶帶來(lái)的附加價(jià)值，這讓我們充滿自豪感。”

△高度動(dòng)態(tài)的軸系統(tǒng)，晶片傳輸和快速空運(yùn)行

未來(lái)的濕法工廠將組合使用已有的干燥工藝，如馬蘭戈尼效應(yīng)（Marangoni effect）和 NID 熱干燥（氮 IPA 蒸汽干燥）工藝。這兩種工藝都是專業(yè)干燥方法的范例，已經(jīng)在各種不同的半導(dǎo)體技術(shù)中得到了驗(yàn)證和應(yīng)用。為了讓客戶盡可能自由地設(shè)計(jì)填充和工藝配方，這些工藝可以單獨(dú)地精確設(shè)置，并根據(jù)具體產(chǎn)品進(jìn)行選擇。

NexAStep 系統(tǒng)的其他創(chuàng)新之處還包括優(yōu)化了制程處理室的提取，以及由此降低了污染度，且工藝溫度高達(dá)170℃，從而提升了加工速度。

△可手動(dòng)操作和裝載，旨在實(shí)現(xiàn)最大的靈活性

總之，這些先進(jìn)的濕法工藝系統(tǒng)能為半導(dǎo)體行業(yè)的客戶帶來(lái)顯著的附加值。它們使得半導(dǎo)體組件的生產(chǎn)更高效、更靈活、成本更優(yōu)化、且自動(dòng)化程度和質(zhì)量水平更高，因而有利于技術(shù)領(lǐng)域的進(jìn)一步發(fā)展。

這一點(diǎn)正是2023 年 6 月開(kāi)始掛牌運(yùn)作的 AP&S 學(xué)院同樣支持的。AP&S 學(xué)院首席運(yùn)營(yíng)官（也是發(fā)起人）Tobias Drixler 解釋道：“長(zhǎng)期以來(lái)，我們一直在客戶的半導(dǎo)體工廠現(xiàn)場(chǎng)成功地舉辦培訓(xùn)課程。不過(guò)，近年來(lái)這方面的需求大幅增長(zhǎng)。此外，客戶要求建立濕法工藝技術(shù)培訓(xùn)中心的呼聲也越來(lái)越高，原因是這樣一來(lái)培訓(xùn)活動(dòng)就不會(huì)影響生產(chǎn)設(shè)施的日常運(yùn)行。這與我們創(chuàng)辦 AP&S 學(xué)院的策略可謂不謀而合。”

Steffen H?lderle（服務(wù)主管）和 André Menge（高級(jí)服務(wù)與培訓(xùn)主管）頗感驕傲地接受了 AP&S 學(xué)院的鑰匙。

△從左到右：總經(jīng)理 Tobias Drixler（首席運(yùn)營(yíng)官），Steffen H?lderle（服務(wù)主管）和 André Menge（高級(jí)服務(wù)與培訓(xùn)主管）

總經(jīng)理 Tobias Drixler（首席運(yùn)營(yíng)官）認(rèn)為，培訓(xùn)中心是一個(gè)平臺(tái)，可以為新員工和客戶提供個(gè)性化和專門的培訓(xùn)，幫助他們更好地了解機(jī)器各自的用途。由于目前技術(shù)工人短缺，而且需要對(duì)非專業(yè)人員進(jìn)行充分的指導(dǎo)，從而使其具備化學(xué)濕法工藝技術(shù)方面的資質(zhì)，因此，人們對(duì)此類培訓(xùn)課程的興趣大增。

有4個(gè)培訓(xùn)模塊，用戶可以連續(xù)參加，培訓(xùn)師由那些既掌握半導(dǎo)體行業(yè)的知識(shí)、同時(shí)又具備教學(xué)技能的公司員工擔(dān)任。因此，AP&S International GmbH 公司員工20 年來(lái)積累的技術(shù)訣竅被有針對(duì)性地傳授給相關(guān)員工，以便通過(guò)以實(shí)踐為導(dǎo)向的方式教授濕法工藝設(shè)備的操作方法。

公司股東兼首席執(zhí)行官Alexandra Laufer-Müller 指出：“我們的目標(biāo)是涵蓋前端和后端生產(chǎn)鏈所需的全部濕法工藝解決方案。例如，我們的產(chǎn)品可執(zhí)行清洗、蝕刻、金屬蝕刻、光刻膠去除（PR strip）、化學(xué)鍍、剝離、干燥和顯影工藝等功能。這是開(kāi)始階段。我們將與客戶一道，不斷開(kāi)發(fā)出色的新型工藝，比如當(dāng)今市場(chǎng)上獨(dú)一無(wú)二的 AP&S 金屬剝離工藝。此外，我們還提供手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)應(yīng)用程序。”

審核編輯 黃宇