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三星與海力士引領(lǐng)DRAM革新:新一代HBM采用混合鍵合技術(shù)

CHANBAEK ? 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-06-25 10:01 ? 次閱讀
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科技日新月異的今天,DRAM(動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器)作為計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中的關(guān)鍵組件,其技術(shù)革新一直備受矚目。近日,據(jù)業(yè)界權(quán)威消息源透露,韓國(guó)兩大DRAM芯片巨頭——三星和SK海力士,都將在新一代高帶寬內(nèi)存(HBM)中采用先進(jìn)的混合鍵合(Hybrid Bonding)技術(shù),這一創(chuàng)新舉措無(wú)疑將推動(dòng)DRAM技術(shù)邁向新的高度。

傳統(tǒng)DRAM芯片的設(shè)計(jì)通常是在同一晶圓單元層的兩側(cè)布置周邊元件,這樣的設(shè)計(jì)雖然在一定程度上滿足了性能需求,但不可避免地增加了表面積,從而限制了器件的集成度和性能提升空間。為了解決這一問(wèn)題,業(yè)界開(kāi)始探索更為先進(jìn)的3D DRAM技術(shù)。

3D DRAM技術(shù)基于現(xiàn)有的平面DRAM單元,通過(guò)垂直堆疊的方式,實(shí)現(xiàn)了單元密度的顯著提升。這種技術(shù)借鑒了目前3D NAND閃存單元垂直堆疊的思路,通過(guò)增加堆疊層數(shù),使得在有限的晶圓面積上能夠容納更多的存儲(chǔ)單元,從而大大提高了存儲(chǔ)容量和讀寫(xiě)速度。

然而,3D DRAM技術(shù)的實(shí)現(xiàn)并非易事。如何在不同DRAM晶圓上精確地制造“單元”和周邊元件,并實(shí)現(xiàn)它們之間的穩(wěn)定連接,是技術(shù)實(shí)現(xiàn)的關(guān)鍵。為此,三星和SK海力士紛紛將目光投向了混合鍵合技術(shù)。

混合鍵合技術(shù)是一種先進(jìn)的晶圓連接技術(shù),它能夠在不同晶圓之間實(shí)現(xiàn)高精度、高強(qiáng)度的連接。通過(guò)這種技術(shù),三星和SK海力士可以在不同DRAM晶圓上分別制造“單元”和周邊元件,然后再通過(guò)混合鍵合技術(shù)將它們連接在一起。這樣不僅能夠有效地控制器件的面積,提高單元密度,還能夠?qū)崿F(xiàn)更加穩(wěn)定、可靠的性能。

值得一提的是,混合鍵合技術(shù)的引入不僅為三星和SK海力士在新一代HBM產(chǎn)品上帶來(lái)了顯著的性能提升,同時(shí)也為整個(gè)DRAM行業(yè)樹(shù)立了新的技術(shù)標(biāo)桿。隨著這一技術(shù)的逐步普及和應(yīng)用,我們有理由相信,未來(lái)的DRAM產(chǎn)品將具備更高的集成度、更快的讀寫(xiě)速度和更低的能耗,從而推動(dòng)整個(gè)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的性能提升和能效優(yōu)化。

總之,三星和SK海力士在新一代HBM中采用混合鍵合技術(shù)的舉措,無(wú)疑將引領(lǐng)DRAM技術(shù)走向新的發(fā)展階段。我們期待這一技術(shù)能夠在未來(lái)得到更廣泛的應(yīng)用和推廣,為整個(gè)計(jì)算機(jī)產(chǎn)業(yè)帶來(lái)更多的創(chuàng)新和突破。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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