來源：Silicon Semiconductor

SkyWater位于明尼蘇達的工廠旨在擁有世界上最先進的200毫米光刻技術。

SkyWater Technology已從 Multibeam Corp. 獲得首款用于批量生產的多柱電子束光刻 (MEBL) 系統。Multibeam (MB) 平臺是半導體行業的里程碑，它提供了一種高吞吐量直接寫入圖案化系統，其速度比傳統電子束設備快幾個數量級，生產效率更高。MB 系統將提供給 SkyWater 客戶進行早期概念原型設計和快速生產。

“很高興能通過 Multibeam 革命性技術為客戶提供新的光刻功能。MB 平臺的部署將為安全防御、生物醫學、熱成像、高可靠性和高級計算市場中從概念到生產的創新者拓展能力并縮短產品上市時間?！?/span>

MEBL 為 SkyWater 的客戶提供多項新的生產能力，包括用于防偽應用的安全芯片 ID 和全晶圓圖案化，可支持焦平面讀取 IC 和其他類型的大尺寸芯片。MEBL 還為一系列高拓撲微流體和 MEMS 架構、光子學曲線設計和高密度 MOS 提供大聚焦深度。此外，它是唯一能夠在 200 毫米晶圓上實現 50 納米以下幾何形狀的生產光刻設備。

MB 平臺創新配置了多個小型化電子束柱，將電子束光刻 (EBL) 提升為突破性的無掩模光刻生產系統，為當今的 IC 晶圓廠帶來了卓越的性能和成本優勢。首套 Multibeam 系統的交付是過去兩年來與 SkyWater 密切合作的結果。此次合作還提供了關鍵晶圓廠的運營洞察，在將 MB 平臺交付給 SkyWater 之前，這些運營洞察是用來定義關鍵系統的性能規格。

Multibeam 董事長兼首席執行官 David K. Lam 博士表示：“這對 Multibeam 來說是一個重要的里程碑，我們非常自豪能與 SkyWater 分享這一里程碑。從我們與 SkyWater 合作之初，他們就支持我們重新創新 EBL 以實現大批量生產的目標，并提供了關鍵的用戶觀點，幫助我們加速開發計劃并商業化世界一流的無掩模光刻系統。非常感謝與其合作，很高興能將我們的第一個生產設備配置在 SkyWater 晶圓廠。”

SkyWater 首席執行官兼董事 Thomas Sonderman 強調了這項技術對目標增長市場客戶的價值，“我們很高興能夠借助 Multibeam 革命性的技術為客戶提供新的光刻功能。MB 平臺的部署將幫助安全防御、生物醫學、熱成像、高可靠性和高級計算市場中從概念到生產的創新者拓展能力并縮短上市時間?！?/span>

Sonderman 補充道：“我們與 Multibeam 的合作，體現了合作伙伴關系在開發突破性設備，加速美國芯片創新方面的力量，并借此讓 SkyWater 位于明尼蘇達州的工廠擁有了世界上最先進的 200 毫米光刻技術?！?/span>

SkyWater 將在2024年第四季度提供對為設備首批客戶設計的訪問權限。

審核編輯 黃宇