來源:Tom聊芯片智造
原文作者:Tom
本文介紹了先進封裝中的等離子體表面處理的作用。
先進封裝中經(jīng)常會用到等離子體處理晶圓表面,有什么作用?哪些步驟會用到?
先進封裝哪些工藝會用到?
在凸點工藝、再布線層工藝、硅通孔工藝、鍵合及解鍵合工藝中都需要用到等離子表面處理。
等離子體處理有什么作用?
1,表面清潔
在先進封裝中,PI膠或光刻膠經(jīng)濕法去膠后,表面仍然殘留一定的較薄的膠層;而在凸點工藝結(jié)束后,需要將下金屬層UBM多余的部分用濕法刻蝕除去,但是濕法去除并不徹底。通常使用O2 Plasma來去除殘膠,用Ar離子轟擊除去殘留金屬。
2,提高結(jié)合力
等離子轟擊晶圓表面,可以對表面進行粗化,增加表面的粗糙度。另一方面對晶圓表面進行改性,這兩個措施都能提高基材與沉積膜層的結(jié)合力。
3,改善潤濕性
使用等離子處理后的材料,增加了表面的極性基團,親水性提升,接觸角減小。
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