高臺階基底晶圓貼蠟方法是半導(dǎo)體制造中的一個關(guān)鍵步驟，特別是在處理具有高階臺金屬結(jié)構(gòu)的晶圓時。以下是一種有效的高臺階基底晶圓貼蠟方法：

一、方法概述

該方法利用膠厚和蠟厚將高臺階填平，并使用較輕的物理壓力以及抽真空技術(shù)來確保晶圓與陶瓷盤之間的緊密貼合。此方法不僅有效避免高臺階金屬被壓碎，還能保證晶圓片內(nèi)厚度偏差（TTV）值在可接受范圍內(nèi)。

二、具體步驟

勻膠處理：

使用勻膠機對晶圓進行二次勻膠。勻膠機設(shè)定轉(zhuǎn)速為1500r/min，首先進行第一層勻膠，時間為3分鐘，勻膠結(jié)束后對晶圓進行烘干。

再次將晶圓放置在勻膠機內(nèi)，在相同轉(zhuǎn)速下進行第二層勻膠，時間為2分鐘。

厚度測量與去邊膠：

使用高度測量儀測量勻膠后的晶圓背面厚度。

對高出的區(qū)域進行去邊膠處理，以確保晶圓背面厚度保持平整。

涂蠟與晶圓粘接：

在加熱至80°C的陶瓷盤上預(yù)涂工業(yè)蠟。

將晶圓通過預(yù)涂的工業(yè)蠟粘接在陶瓷盤上。

施加物理壓力與抽真空：

在晶圓上覆蓋一層直徑大于晶圓直徑的無塵紙。

在無塵紙上放置一個加壓重物（如陶瓷盤），施加較輕的物理壓力。

使用抽真空裝置（包括真空泵、氣管和真空罩）對晶圓進行抽真空處理，時間為5分鐘。

冷卻與檢驗：

抽真空完成后，取出物件并自然冷卻。

去除加壓重物和無塵紙，用酒精清除晶圓背面的蠟漬。

使用測量儀器對晶圓進行測厚檢驗，確保晶圓片內(nèi)厚度偏差小于15um。

三、注意事項

工藝參數(shù)控制：在勻膠、涂蠟、抽真空等步驟中，要嚴(yán)格控制各項工藝參數(shù)，以確保加工質(zhì)量和穩(wěn)定性。

設(shè)備維護：定期對勻膠機、測量儀器、抽真空裝置等設(shè)備進行維護和保養(yǎng)，確保設(shè)備的精度和可靠性。

環(huán)境要求：在加工過程中，要保持工作環(huán)境的清潔和穩(wěn)定，避免灰塵、振動等因素對加工質(zhì)量的影響。

四、方法優(yōu)勢

低成本：該方法采用低成本及簡單的物理方式進行貼蠟，降低了生產(chǎn)成本。

高效性：通過勻膠、涂蠟、抽真空等步驟的協(xié)同作用，實現(xiàn)了晶圓與陶瓷盤之間的緊密貼合，提高了加工效率。

高質(zhì)量：該方法有效避免了高臺階金屬被壓碎的問題，并能保證晶圓片內(nèi)厚度偏差（TTV）值在可接受范圍內(nèi)，從而提高了產(chǎn)品質(zhì)量。

綜上所述，這種高臺階基底晶圓貼蠟方法具有低成本、高效性和高質(zhì)量的優(yōu)勢，適用于半導(dǎo)體制造中需要處理高臺階金屬結(jié)構(gòu)的晶圓。

五、高通量晶圓測厚系統(tǒng)

高通量晶圓測厚系統(tǒng)以光學(xué)相干層析成像原理，可解決晶圓/晶片厚度TTV（Total Thickness Variation，總厚度偏差）、BOW（彎曲度）、WARP（翹曲度），TIR（Total Indicated Reading 總指示讀數(shù)，STIR（Site Total Indicated Reading 局部總指示讀數(shù)），LTV（Local Thickness Variation 局部厚度偏差）等這類技術(shù)指標(biāo)。

高通量晶圓測厚系統(tǒng)，全新采用的第三代可調(diào)諧掃頻激光技術(shù)，傳統(tǒng)上下雙探頭對射掃描方式，可兼容2英寸到12英寸方片和圓片，一次性測量所有平面度及厚度參數(shù)。

1,靈活適用更復(fù)雜的材料，從輕摻到重?fù)?P 型硅 (P++)，碳化硅，藍寶石，玻璃，鈮酸鋰等晶圓材料。

重?fù)叫凸瑁◤娢站A的前后表面探測）

粗糙的晶圓表面，（點掃描的第三代掃頻激光，相比靠光譜探測方案，不易受到光譜中相鄰單位的串?dāng)_噪聲影響，因而對測量粗糙表面晶圓）

低反射的碳化硅(SiC)和鈮酸鋰(LiNbO3)；（通過對偏振效應(yīng)的補償，加強對低反射晶圓表面測量的信噪比）

絕緣體上硅（SOI)和MEMS，可同時測量多層結(jié)構(gòu)，厚度可從μm級到數(shù)百μm 級不等。

可用于測量各類薄膜厚度，厚度最薄可低至4μm ，精度可達1nm。

1，可調(diào)諧掃頻激光的“溫漂”處理能力，體現(xiàn)在極端工作環(huán)境中抗干擾能力強，一改過去傳統(tǒng)晶圓測量對于“主動式減震平臺”的重度依賴，成本顯著降低。

2，靈活的運動控制方式，可兼容2英寸到12英寸方片和圓片測量。