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既然MOSFET柵-源阻抗非常大,為什么設(shè)計(jì)驅(qū)動(dòng)MOS電路的柵極電流還要大?1200字說清楚

硬件那點(diǎn)事兒 ? 來源:硬件那點(diǎn)事兒 ? 作者:硬件那點(diǎn)事兒 ? 2025-01-02 09:27 ? 次閱讀
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Part 01

前言

三極管是流控型器件,通過電流控制三極管的工作區(qū),而MOSFET與之相對是壓控型器件,柵-源阻抗非常大,我們一般認(rèn)為MOSFET柵-源工作電流可以忽略,那既然MOSFET是壓控型器件,為什么設(shè)計(jì)MOFET驅(qū)動(dòng)電路時(shí),柵極驅(qū)動(dòng)電流要大呢? 要想回答上面的問題,就不得不聊聊MOSFET中的米勒平臺電壓,也就是Miller Plateau Voltage,它是指在MOSFET開關(guān)過程中,由于MOSFET寄生電容的米勒效應(yīng),MOSFET的柵極-源極電壓 (VGS) 會保持在一個(gè)固定電壓水平的現(xiàn)象。這一現(xiàn)象與MOSFET的寄生電容、以及驅(qū)動(dòng)電路密切相關(guān)。 b16a5e0a-c89e-11ef-902f-92fbcf53809c.png

Part 02

米勒效應(yīng)的基本原理

MOSFET的寄生電容包括柵極-漏極電容 (Cgd) 和柵極-源極電容 (Cgs)。雖然柵源電容很重要,但柵漏電容實(shí)際上更重要。并且更難以處理,因?yàn)樗且粋€(gè)隨電壓變化的非線性電容。其中,Cgd是導(dǎo)致米勒效應(yīng)的主要因素。當(dāng)MOSFET開關(guān)狀態(tài)發(fā)生變化時(shí),漏極電壓 (VDV) 會發(fā)生大幅度的變化,Cgd的存在導(dǎo)致柵極需要提供更多的電荷或移除更多的電荷來應(yīng)對這種變化。 b189cefc-c89e-11ef-902f-92fbcf53809c.png

1.開通過程:

t1:gs電容開始充電,gs電壓開始抬升,電壓達(dá)到Vth之前,沒有電流流過D。柵極驅(qū)動(dòng)電壓 (VGS) 逐漸上升并達(dá)到閾值電壓 (Vth) 。

t2:當(dāng)柵極驅(qū)動(dòng)電壓 (VGS) 超過MOSFET的閾值電壓 (Vth) 后,Cgs繼續(xù)充電,Vgs繼續(xù)抬升,Ids電流成比例增大,在此階段由于Rds較大,所以雖然Cgd也能通過G->D->S進(jìn)行充電,但是電流較小,可以忽略.

t3:之后drain電流達(dá)到Id,Vd電壓不再和VDD保持一致,并開始下降,Id不再發(fā)生變化,此時(shí)Vg電壓也不再變化,此時(shí)Ig電流基本都用于給Cdg充電。在此過程中,漏極電壓 (VDV) 開始下降,導(dǎo)致Cgd兩端的電壓變化,從而引發(fā)米勒效應(yīng)。由于柵極電流 (IG) 的一部分用于驅(qū)動(dòng)Cgd,VGS會暫時(shí)停止增加,形成“米勒平臺”。

t4:Vd電壓降低為:Id*Rds(on),MOS開始進(jìn)入飽和區(qū),此時(shí)Vd不再受傳輸特性限制(與Id有關(guān)),并開始自由增加。到達(dá)t4時(shí)間點(diǎn),Vg電壓達(dá)到gate電流源電壓。在此階段,Vgs正比于Q=I*t(I恒定,由恒流源提供),t3之后的充電不是用于MOS開關(guān)的充電,簡單來說就是過充,是由驅(qū)動(dòng)電路導(dǎo)致的,這是由于Vgate的驅(qū)動(dòng)電壓一般會高于完成MOS由關(guān)到開的切換所需最小電壓。

b1a02c38-c89e-11ef-902f-92fbcf53809c.png

2.關(guān)斷過程:

在關(guān)斷時(shí),漏極電壓 (VDV) 開始從低電位上升到高電位,同樣引發(fā)米勒效應(yīng)。

柵極電壓 (VGS) 在米勒平臺電壓附近保持穩(wěn)定,直到漏極電壓變化完成。

Part 03

總結(jié)

通過上面的分析,我們發(fā)現(xiàn)米勒平臺的持續(xù)時(shí)間有很多影響,米勒平臺形成的根本原因是MOSFET的寄生電容導(dǎo)致的,而電容的電荷Q=I*t,在Q一定的情況下,I越大,t就越小,這個(gè)I就是MOSFET的柵極驅(qū)動(dòng)電流。 所以米勒平臺的持續(xù)時(shí)間取決于柵極驅(qū)動(dòng)電流和寄生電容的值。驅(qū)動(dòng)電流越大,平臺持續(xù)時(shí)間越短。所以我們可以通過選擇合適的柵極驅(qū)動(dòng)器,提供足夠的電流以快速跨越米勒平臺,米勒平臺期間的開關(guān)損耗是總損耗的重要組成部分,特別是在高頻開關(guān)應(yīng)用中減少米勒平臺持續(xù)時(shí)間,來減小MOSFET的開關(guān)損耗。這也是為什么MOSFET明明是壓控型器件,倒是我們還是設(shè)計(jì)MOSFET驅(qū)動(dòng)電路時(shí)還是要追求柵極驅(qū)動(dòng)電路要大的原因。

并且米勒效應(yīng)引起的漏極電壓變化可能導(dǎo)致電磁干擾(EMI)問題。在設(shè)計(jì)中可以通過緩沖電路或柵極電阻優(yōu)化開關(guān)波形,所以如果你發(fā)現(xiàn)你的MOSFET柵極波形有振蕩,就需要考慮了。

審核編輯 黃宇

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