2025上海國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)暨展覽會(huì)將于7月29-31日在上海國(guó)家會(huì)展中心（虹橋）舉行。作為兼具規(guī)模和行業(yè)影響力的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)品牌盛會(huì)，展會(huì)聚焦半導(dǎo)體行業(yè)創(chuàng)新產(chǎn)品、先進(jìn)技術(shù)、應(yīng)用解決方案及商業(yè)合作模式的集中展示與交流，為行業(yè)上下游企業(yè)提供一站式對(duì)接平臺(tái)。

邀請(qǐng)函

尊敬的先生/女士：

您好！

我們誠(chéng)摯邀請(qǐng)您蒞臨2025上海國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)暨展覽會(huì)。屆時(shí)，廣明源（展位號(hào)：4.1H館 3-B12-1）將攜172nm準(zhǔn)分子光源在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的多場(chǎng)景應(yīng)用解決方案亮相展會(huì)，期待與行業(yè)專(zhuān)家、合作伙伴及客戶(hù)代表深入交流，共同探討光科技在半導(dǎo)體先進(jìn)制程中的應(yīng)用前景與合作機(jī)會(huì)。

順頌商祺！

廣明源光科技股份有限公司

2025年7月

172nm準(zhǔn)分子光科技應(yīng)用方案

助力半導(dǎo)體行業(yè)降本增效

本次展會(huì)，廣明源將重點(diǎn)展示172nm準(zhǔn)分子光源在半導(dǎo)體制程中的多項(xiàng)應(yīng)用成果，涵蓋晶圓清洗、表面改性、超純水TOC處理及工藝驗(yàn)證開(kāi)發(fā)等多個(gè)環(huán)節(jié)，為行業(yè)客戶(hù)提供高效、環(huán)保、可定制的工藝優(yōu)化方案。

展出亮點(diǎn)

1晶圓/掩膜版光清洗解決方案

√ 功能：高效去除晶圓及掩膜版表面微觀有機(jī)污染物，實(shí)現(xiàn)超凈化處理。

√ 優(yōu)勢(shì)：無(wú)化學(xué)殘留、低溫?zé)o損傷、原子級(jí)潔凈度。

√ 應(yīng)用：晶圓、光罩、掩膜版、顯示屏、PET、PCB 等的表面有機(jī)污染物清潔、封裝前預(yù)處理、光刻膠去除。

172nm清潔納米壓印模具，提高潔凈度

2晶圓鍵合改性解決方案

√ 功能：精準(zhǔn)調(diào)節(jié)表面親水性和粘附性能，提升鍵合效果。

√ 優(yōu)勢(shì)：低熱效應(yīng)、快速處理、無(wú)化學(xué)殘留。

√ 應(yīng)用：薄膜沉積前處理、MEMS封裝、3D封裝、晶圓鍵合、倒裝芯片及引線(xiàn)鍵合等高精度芯片制造環(huán)節(jié)。

照射后，親水性提高，接觸角明顯變小

3超純水TOC降解解決方案

√ 功能：高效降解超純水系統(tǒng)中的總有機(jī)碳（TOC），潔凈度可達(dá)ppb級(jí)。

√ 優(yōu)勢(shì)：無(wú)化學(xué)添加、在線(xiàn)降解、穩(wěn)定可靠。

√ 應(yīng)用：半導(dǎo)體晶圓制程、顯示面板生產(chǎn)等超純水系統(tǒng)。

超純水TOC降解原理

4制程驗(yàn)證開(kāi)發(fā)解決方案

專(zhuān)為半導(dǎo)體工藝研發(fā)、制程驗(yàn)證及小批量試產(chǎn)設(shè)計(jì)的172nm MINI實(shí)驗(yàn)?zāi)＝M，具備結(jié)構(gòu)緊湊、便于部署、靈活可移、成本可控等特點(diǎn)，適用于多種實(shí)驗(yàn)環(huán)境及工藝驗(yàn)證需求。

172nm MINI實(shí)驗(yàn)?zāi)＝M

√ 功能：高效分解晶圓表面有機(jī)殘留，提升潔凈度與附著性能。

√ 優(yōu)勢(shì)：高集成輕量化設(shè)計(jì)，便于搭建實(shí)驗(yàn)環(huán)境。

√ 應(yīng)用：表面有機(jī)污染物去除、表面活化與改性、封裝工藝前處理及超凈化超微細(xì)清洗工藝驗(yàn)證。

廣明源誠(chéng)邀行業(yè)同仁蒞臨展位，現(xiàn)場(chǎng)交流光科技在半導(dǎo)體制造工藝中的應(yīng)用實(shí)踐與創(chuàng)新成果，共同探討合作機(jī)會(huì)，助力行業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。