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IC產(chǎn)業(yè)會(huì)不會(huì)終結(jié)在10nm以下節(jié)點(diǎn)

半導(dǎo)體動(dòng)態(tài) ? 來(lái)源:工程師吳畏 ? 2019-05-18 11:20 ? 次閱讀

IC集成電路可以說(shuō)是20世紀(jì)后半年最重要的科技之一,我們現(xiàn)在使用的CPUGPU以及其他芯片都受益于IC產(chǎn)業(yè),50多年前Intel創(chuàng)始人之一的戈登·摩爾提出的摩爾定律成為指導(dǎo)IC發(fā)展的黃金定律。

但是在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm之后,芯片制造難度越來(lái)越大,性能提升也越來(lái)越不明顯了,摩爾定律也多次被人質(zhì)疑了,IC產(chǎn)業(yè)會(huì)不會(huì)就此終結(jié)在10nm以下節(jié)點(diǎn)了?誰(shuí)能回答這個(gè)問(wèn)題?

美國(guó)工程院院士、中科院外籍院士、IEEE會(huì)士、加州大學(xué)伯克利分校教授、前臺(tái)積電CTO胡正明教授也許是最資格談IC產(chǎn)業(yè)未來(lái)的人,因?yàn)樗€是FinFET工藝、FD-SOI工藝的發(fā)明人,這兩項(xiàng)半導(dǎo)體工藝是當(dāng)今IC產(chǎn)業(yè)的支柱。

日前在概倫電子技術(shù)研討會(huì)上,胡正明教授發(fā)表了《FinFET與未來(lái)IC技術(shù)》的演講,介紹了他對(duì)IC產(chǎn)業(yè)未來(lái)的看法,他認(rèn)為IC產(chǎn)業(yè)還能再發(fā)展100年,對(duì)于IC產(chǎn)業(yè)前景還是很樂(lè)觀的。

根據(jù)胡教授所說(shuō),IC產(chǎn)業(yè)之所以還能繼續(xù)發(fā)展是因?yàn)閮蓚€(gè)因素,一是因?yàn)楣枋堑厍蛏虾康诙嗟脑兀瑤缀跞≈槐M。

大家都說(shuō)芯片是沙子做的,這話雖然是調(diào)侃,但確實(shí)有道理,儲(chǔ)量豐富是保證硅基半導(dǎo)體成本降低的重要因素,目前也有非硅基的半導(dǎo)體材料,比如氮化鎵、砷化鎵、磷化銦等等,但是他們的成本不便宜,制造工藝也沒(méi)有現(xiàn)在的硅基半導(dǎo)體成熟,主要用于特殊市場(chǎng)。

胡正明教授提出的第二個(gè)因素則是關(guān)于芯片功耗,他認(rèn)為芯片功耗還能再降低1000倍。換句話說(shuō),胡正明教授也是同意摩爾定律終結(jié)的,芯片性能可能不會(huì)有大規(guī)模提升了,但是能效方面還大有可為,功耗還有足夠多的降低空間。

胡正明教授有關(guān)芯片功耗降低1000倍的說(shuō)法也不是第一次提起了,過(guò)去兩年中他在不同的場(chǎng)合也多次表達(dá)過(guò)類(lèi)似的說(shuō)法,去年接受中國(guó)電子報(bào)采訪時(shí)就有過(guò)表態(tài)

“集成電路的發(fā)展路徑并不一定非要把線寬越做越小,現(xiàn)在存儲(chǔ)器已經(jīng)朝三維方向發(fā)展了。當(dāng)然我們希望把它做得更小,可是我們也可以采取其他方法推進(jìn)集成電路技術(shù)的發(fā)展,比如減少芯片的能耗。這個(gè)方向芯片還有1000倍的能耗可以降低。線寬的微縮總是有一個(gè)極限的,到了某種程度,就沒(méi)有經(jīng)濟(jì)效應(yīng),驅(qū)動(dòng)人們把這條路徑繼續(xù)走下去。但是我們并不一定非要一條路走到黑,我們也可以轉(zhuǎn)換一個(gè)思路,同樣可能實(shí)現(xiàn)我們想要達(dá)到的目的。”——胡正明

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