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• 發布了文章 2025-06-30 16:47

  槽式清洗和單片清洗最大的區別是什么

  

  槽式清洗與單片清洗是半導體、光伏、精密制造等領域中兩種主流的清洗工藝，其核心區別在于清洗對象、工藝模式和技術特點。以下是兩者的最大區別總結：1.清洗對象與規模槽式清洗：批量處理：一次性清洗多個工件（如半導體晶圓、光伏硅片、金屬零件等），通常以“槽”為單位裝載。適用場景：適合大批量生產，尤其是對清潔度要求一致且工藝相同的產品（如集成電路封裝前的引腳清洗、汽車零

  半導體 清洗工藝

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• 發布了產品 2025-06-30 14:11

  硅片清洗機設備 徹底完成清洗任務

  

  產品型號：gpqxjsb 非標定制：根據客戶需求定制

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• 發布了產品 2025-06-30 13:58

  晶圓清洗臺通風櫥 穩定可靠

  

  產品型號：jyqxttfc 非標清洗：根據客戶需求定制

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• 發布了產品 2025-06-30 13:52

  濕法清洗臺 專業濕法制程

  

  產品型號：sfqxt 非標定制：根據客戶需求定制

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• 發布了文章 2025-06-30 13:45

  單晶硅清洗廢液處理方法有哪些

  

  很多人接觸過，或者是存在好奇與疑問，很想知道的是單晶硅清洗廢液處理方法有哪些？那今天就來給大家解密一下，主流的單晶硅清洗廢液處理方法詳情。物理法過濾：可去除廢液中的大顆粒懸浮物、固體雜質等，常采用砂濾、精密過濾等手段。比如在單晶硅切割廢液處理中，先通過過濾將廢砂漿中的固體顆粒分離出來，便于后續處理3。沉淀：利用重力作用使廢液中的懸浮顆粒自然沉降，可分為自然沉

  晶硅 清洗

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• 發布了產品 2025-06-25 10:47

  晶圓載具清洗機 確保晶圓純凈度

  

  產品型號：jyzjqxj 非標定制：根據客戶需求與方案定制

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• 發布了產品 2025-06-25 10:31

  半導體清洗機設備 滿足產能躍升需求

  

  產品型號：bdtqxjsb 非標定制：根據客戶需求定制

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• 發布了產品 2025-06-25 10:26

  晶圓濕法清洗設備 適配復雜清潔挑戰

  

  產品型號：jysfqxsb 非標定制：根據客戶需求與方案定制

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• 發布了產品 2025-06-25 10:21

  半導體濕法清洗設備 滿足產能躍升需求

  

  產品型號：bdtsfqxsb 非標定制：根據需求進行定制

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• 發布了產品 2025-06-17 13:27

  預清洗機 多種工藝兼容

  

  產品型號：yqxj 非標定制：根據需求進行設計

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