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中科院半導體所

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單層半導體中的新磁性:交換能量的關鍵作用

本文深入探討了交換能量的復雜性,它在鐵磁性中的作用,以及在單層半導體中測量它的開創性方法。 想象一種....
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晶圓料號打標的方式及激光打標的原理

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CIM系統的定義、組成和對于FAB廠的重要性

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晶圓制造recipe(工藝配方)的定義、重要性、種類及構建和驗證方式

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的頭像 中科院半導體所 發表于 12-10 17:11 ?2301次閱讀

銅互連雙大馬士革工藝的步驟

本文介紹了銅互連雙大馬士革工藝的步驟。 ? 如上圖,是雙大馬士革工藝的一種流程圖。雙大馬士革所用的介....
的頭像 中科院半導體所 發表于 12-10 11:28 ?2746次閱讀
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一文看懂SOI的重要性

絕緣體上硅(SOI)技術的基本思想是通過將承載電子器件的晶片表面的薄層與用作機械支撐的塊晶片電絕緣來....
的頭像 中科院半導體所 發表于 12-10 10:12 ?1676次閱讀
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為什么硅的硬度大但又這么脆

硅原子之間的共價鍵使硅晶體表現出較高的硬度,同時具有脆性的特點。 ? 硅屬于原子晶體,其原子之間通過....
的頭像 中科院半導體所 發表于 12-10 09:53 ?1273次閱讀
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融合計算是如何提出來的

融合計算是微觀和宏觀視角算力提升策略的總結,是三個維度融合(異構融合x軟硬件融合x云邊端融合)的統稱....
的頭像 中科院半導體所 發表于 12-10 09:51 ?534次閱讀
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酒精檢測儀是如何識別酒駕的

酒駕是一種極具危險性和社會危害性的行為。酒精對人體的影響較為復雜,且在駕駛過程中會嚴重影響駕駛者的反....
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人工智能發展需要新的芯片技術

人工智能的繁榮發展需要新的芯片技術。 ? 1997年,IBM的“深藍”超級計算機打敗了國際象棋世界冠....
的頭像 中科院半導體所 發表于 12-07 09:49 ?993次閱讀
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選擇性沉積技術介紹

選擇性沉積技術可以分為按需沉積與按需材料工藝兩種形式。 隨著芯片制造技術的不斷進步,制造更小、更快且....
的頭像 中科院半導體所 發表于 12-07 09:45 ?906次閱讀
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硅拋光片的主要技術指標、測試標準及硅片加工參數的測量方法

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鐵磁性的概念、產生機理、應用

本文簡單介紹鐵磁性的概念、產生機理、應用等內容。 鐵磁性是一種最引人入勝且被廣泛研究的磁現象,指某些....
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多晶氧化物中的晶界和異質界面概念、形成機理以及如何表征

本文介紹了多晶氧化物中的晶界和異質界面的概念、形成機理以及如何表征。 固-固界面是材料科學領域的核心....
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芯片制造過程中的兩種刻蝕方法

本文簡單介紹了芯片制造過程中的兩種刻蝕方法 ? 刻蝕(Etch)是芯片制造過程中相當重要的步驟。 刻....
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Monitor Wafer的核心功能、特點、生產流程和應用

? 文本簡單介紹了非生產晶圓Monitor Wafer的核心功能、特點、生產流程和應用。 Monit....
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不同材料間的焊接冶金特性

本文簡單介紹了不同材料間的焊接冶金特性。 不同材料間的焊接冶金特性是超聲波壓焊技術中需要重點關注的問....
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菱形石墨烯結構及其中的量子反常霍爾效應

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? ? ? 本文介紹了什么是光罩(Mask)。 光罩(Mask),也稱為掩膜版,是集成電路(IC)制....
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半導體所在PZT光電子材料與器件領域取得重大突破

數據中心、人工智能和云計算等技術的飛速發展導致全球流量需求激增,對高速信息網絡的構建提出了前所未有的....
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刻蝕工藝的參數有哪些

本文介紹了刻蝕工藝參數有哪些。 刻蝕是芯片制造中一個至關重要的步驟,用于在硅片上形成微小的電路結構。....
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第三代寬禁帶半導體:碳化硅和氮化鎵介紹

? 第三代寬禁帶功率半導體在高溫、高頻、高耐壓等方面的優勢,且它們在電力電子系統和電動汽車等領域中有....
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激光導熱儀設備原理

本文介紹激光導熱儀 微納電子器件和光電器件向著模塊化、集成化、高頻化及小型化的方向不斷邁進,使其單位....
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聲光調制原理說明

本文介紹聲光調制 聲光是研究聲音如何改變這種介質對光的影響,如圖所示。許多有用的光子器件利用聲音控制....
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填充片的定義及作用

本文介紹填充片的定義及作用 一、Dummy Wafer 的定義與作用 Dummy Wafer,中文稱....
的頭像 中科院半導體所 發表于 12-04 13:56 ?981次閱讀

從平面晶體管到FinFET的演變

在90納米制程之前,每一代集成電路技術節點的縮放不僅帶來了更高的器件密度,還提升了器件性能。然而,當....
的頭像 中科院半導體所 發表于 12-04 11:04 ?1209次閱讀
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模塊封裝的關鍵工藝

區別于分立器件模塊的制造有一些特別的關鍵工藝技術,如銀燒結、粗銅線鍵合、端子焊接等。
的頭像 中科院半導體所 發表于 12-04 11:01 ?774次閱讀
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多芯片封裝的基本概念和關鍵技術

本文簡單介紹了多芯片封裝的概念、技術、工藝以及未來發展趨勢。
的頭像 中科院半導體所 發表于 12-04 10:59 ?1507次閱讀
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干法刻蝕側壁彎曲的原因及解決方法

本文介紹了干法刻蝕側壁彎曲的原因及解決方法。 什么是側壁彎曲? 如上圖,是典型的干法刻蝕時,側壁彎曲....
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晶圓表面溫度對干法刻蝕的影響

本文介紹晶圓表面溫度對干法刻蝕的影響 表面溫度對干法刻蝕的影響主要包括:聚合物沉積,選擇性,光刻膠流....
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