聽上去很高大上的“薄膜沉積”到底是什么？

簡單來說：薄膜沉積就是幫芯片“貼膜”的。

薄膜沉積（Thin Film Deposition）是在半導(dǎo)體的主要襯底材料上鍍一層膜，再配合蝕刻和拋光等工藝的反復(fù)進(jìn)行，做出堆疊起來的導(dǎo)電或絕緣層。

用來鍍膜的這個(gè)設(shè)備就叫薄膜沉積設(shè)備，制造工藝按照其成膜方法可分為兩大類：物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積（CVD）。

在沉積過程中進(jìn)行穩(wěn)定和精確的氣體控制

物理氣相沉積是Sensirion質(zhì)量流量控制器最成功的應(yīng)用場景之一，核心優(yōu)勢就在于產(chǎn)品自身超高的可重復(fù)性和穩(wěn)定性：

應(yīng)用挑戰(zhàn)

需要一致且可重復(fù)的過程來加強(qiáng)控制并提高生產(chǎn)產(chǎn)量

先進(jìn)工藝需在氣體之間進(jìn)行高速切換

同一過程中使用多種氣體

盛思銳解決方案

理想的可重復(fù)性，通常大幅優(yōu)于常規(guī)方案

更短穩(wěn)定時(shí)間

多氣體校準(zhǔn)

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舉例來說，在工藝參數(shù)設(shè)定中，其實(shí)氬氣流量是1.2slm還是1.3slm并非最核心的考量，真正重要的是讓設(shè)備每次執(zhí)行時(shí)都能輸出相同的流量。這才能使得設(shè)備使用者可以安心地進(jìn)行工藝參數(shù)優(yōu)化，在確定最佳參數(shù)組合后，確保生產(chǎn)過程中的流量控制具有理想的一致性。

在薄膜沉積過程中，SFC5500系列可確保氣體流量控制的高度一致性，使工藝參數(shù)的優(yōu)化成果穩(wěn)定復(fù)現(xiàn)。不同于傳統(tǒng)質(zhì)量流量控制器對于高精度的單一追求，SFC5500系列更關(guān)注生產(chǎn)過程中重復(fù)性保障，讓客戶在完成鍍膜參數(shù)調(diào)優(yōu)后，能夠?qū)崿F(xiàn)幾乎每一次的理想沉積，確保所獲薄膜的均勻性和整體質(zhì)量，并為最終量產(chǎn)效果提供可靠技術(shù)保障。

憑借CMOSens? MEMS流量傳感器的超高控制范圍，SFC5500系列的單個(gè)器件即可覆蓋傳統(tǒng)質(zhì)量流量控制器的多個(gè)流量范圍，同時(shí)還配有多氣體校準(zhǔn)功能與可更換配件，是市面上第一款適合廣泛應(yīng)用的標(biāo)準(zhǔn)現(xiàn)貨供應(yīng)質(zhì)量流量控制器。

SFC5500系列其他優(yōu)勢

提供質(zhì)量流量計(jì)和質(zhì)量流量控制器兩種版本

多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)接頭和通信接口選項(xiàng)

半導(dǎo)體級相容性

其他應(yīng)用

分析儀器

過程控制

FOUP

* 登錄Sensirion官方網(wǎng)站，

您可以找到上述產(chǎn)品的詳細(xì)信息和規(guī)格。

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常見問題

Q

SFC5500的工作壓力范圍？

A

根據(jù)流量范圍確定，最高可達(dá)10巴。

Q

有哪些觸液材料?

A

鋁、黃銅閥門、密封聚合物和硅片。

Q

質(zhì)量流量控制器的性能是否

受到溫度和壓力的影響？

A

質(zhì)量流量控制器具有溫度補(bǔ)償功能；規(guī)格參數(shù)中已包含輕微的壓力的影響。