--- 產(chǎn)品參數(shù) ---
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--- 產(chǎn)品詳情 ---
中圖儀器NS系列沉積薄膜高度臺階儀能夠測量納米到330μm或1050μm的臺階高度,可以準確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。

NS系列沉積薄膜高度臺階儀主要用于臺階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測量。應用場景適應性強,其對被測樣品的反射率特性、材料種類及硬度等均無特殊要求,能夠廣泛應用于半導體、太陽能光伏、光學加工、LED、MEMS器件、微納材料制備等各行業(yè)領域內(nèi)的工業(yè)企業(yè)與高校院所等科研單位,其對表面微觀形貌參數(shù)的準確表征,對于相關材料的評定、性能的分析與加工工藝的改善具有重要意義。
產(chǎn)品功能
1.參數(shù)測量功能
1)臺階高度:能夠測量納米到330μm或1050μm的臺階高度,可以準確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。
2)粗糙度與波紋度:能夠測量樣品的粗糙度和波紋度,分析軟件通過計算掃描出的微觀輪廓曲線,可獲取粗糙度與波紋度相關的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等數(shù)十項參數(shù)。
3)應力測量:可測量多種材料的表面應力。
2.測量模式與分析功能
1)單區(qū)域測量模式:完成Focus后根據(jù)影像導航圖設置掃描起點和掃描長度,即可開始測量。
2)多區(qū)域測量模式:完成Focus后,根據(jù)影像導航圖完成單區(qū)域掃描路徑設置,可根據(jù)橫向和縱向距離來陣列形成若干到數(shù)十數(shù)百項掃描路徑所構成的多區(qū)域測量模式,一鍵即可完成所有掃描路徑的自動測量。
3)3D測量模式:完成Focus后根據(jù)影像導航圖完成單區(qū)域掃描路徑設置,并可根據(jù)所需掃描的區(qū)域寬度或掃描線條的間距與數(shù)量完成整個掃描面區(qū)域的設置,一鍵即可自動完成整個掃描面區(qū)域的掃描和3D圖像重建。
4)SPC統(tǒng)計分析:支持對不同種類被測件進行多種指標參數(shù)的分析,針對批量樣品的測量數(shù)據(jù)提供SPC圖表以統(tǒng)計數(shù)據(jù)的變化趨勢。
3.雙導航光學影像功能
在NS200-D型號中配備了正視或斜視的500W像素的彩色相機,在正視導航影像系統(tǒng)中可精確設置掃描路徑,在斜視導航影像系統(tǒng)中可實時跟進掃描軌跡。
4.快速換針功能
采用了磁吸式測針,當需要執(zhí)行換針操作時,可現(xiàn)場快速更換掃描測針,并根據(jù)軟件中的標定模塊進行快速標定,確保換針后的精度和重復性,減少維護煩惱。

NS系列沉積薄膜高度臺階儀采用了線性可變差動電容傳感器LVDC,具備超微力調(diào)節(jié)的能力和亞埃級的分辨率,同時,其集成了超低噪聲信號采集、超精細運動控制、標定算法等核心技術,使得儀器具備超高的測量精度和測量重復性。其在ITO導電薄膜厚度的測量上具有很強的優(yōu)勢。如針對測量ITO導電薄膜的應用場景,NS200臺階儀提供如下便捷功能:
1)結合了360°旋轉臺的全電動載物臺,能夠快速定位到測量標志位;
2)對于批量樣件,提供自定義多區(qū)域測量功能,實現(xiàn)一鍵多點位測量;
3)提供SPC統(tǒng)計分析功能,直觀分析測量數(shù)值變化趨勢;
應用場景介紹

部分技術參數(shù)
型號 | NS200 |
測量技術 | 探針式表面輪廓測量技術 |
探針傳感器 | 超低慣量,LVDC傳感器 |
平臺移動范圍X/Y | 電動X/Y(150mm*150mm)(可手動校平) |
樣品R-θ載物臺 | 電動,360°連續(xù)旋轉 |
單次掃描長度 | 55mm |
樣品厚度 | 50mm |
載物臺晶圓尺寸 | 150mm(6吋),200mm(8吋) |
尺寸(L×W×H)mm | 640*626*534 |
重量 | 40kg |
儀器電源 | 100-240 VAC,50/60 Hz,200W |
使用環(huán)境
相對濕度:濕度 (無凝結)30-40% RH
溫度:16-25℃ (每小時溫度變化小于2℃)
地面振動:6.35μm/s(1-100Hz)
音頻噪音:≤80dB
空氣層流:≤0.508 m/s(向下流動)
懇請注意:因市場發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關內(nèi)容可能會根據(jù)實際情況隨時更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請諒解。
如有疑問或需要更多詳細信息,請隨時聯(lián)系中圖儀器咨詢。
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