GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀

光刻機是一種用于微納米加工的設備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統）等微細結構。光刻機是一種光學投影技術，通過將光線通過光刻膠（光敏膠）進行光刻，將圖形信息轉移到基片上，從而實現微細結構的制造。

光刻機的工作原理是利用光學系統將光線聚焦到光刻膠上，通過掩膜版（也稱為光刻掩膜）上的圖形信息進行光刻。光刻膠是一種光敏性材料，當光線照射到光刻膠上時，會引起化學反應或物理變化，使光刻膠在曝光區域發生固化或溶解。通過掩膜版上的圖形信息和光刻膠的特性，可以實現對基片上微細結構的制造。

光刻機主要由以下幾個部分組成：光源系統、光學系統、對準系統和控制系統。光源系統提供光線，通常使用紫外線光源，如汞燈、氙燈等。光學系統用于將光線聚焦到光刻膠上，通常包括透鏡、反射鏡等光學元件。對準系統用于將掩膜版上的圖形信息與基片對準，確保光刻的準確性和精度。控制系統用于控制光刻機的運行和參數設置，如曝光時間、曝光能量等。

光刻掩膜版測溫是一種常用的技術，用于在光刻過程中監測和控制溫度。光刻是一種重要的微納加工技術，廣泛應用于半導體、光電子、微電子等領域。在光刻過程中，溫度對于保證光刻質量和提高產品性能至關重要。因此，使用掩膜版測溫技術可以實時監測溫度變化，確保光刻過程的穩定性和可靠性。    

首先，光刻掩膜版測溫技術通過在掩膜版上安裝溫度傳感器，實時測量溫度變化。掩膜版是光刻過程中用于傳遞圖形信息的關鍵部件，而溫度對于掩膜版的變形和穩定性有很大影響。通過在掩膜版上安裝溫度傳感器，可以準確地測量掩膜版表面的溫度，并將數據傳輸到監測系統中進行處理和分析。

其次，光刻掩膜版測溫技術可以實時監測溫度變化，并根據測量結果進行相應的控制。在光刻過程中，溫度的變化會直接影響到光刻膠的性質和光刻圖形的質量。通過實時監測溫度變化，可以及時發現溫度異常，并采取相應的措施進行調整和控制，保證光刻過程的穩定性和可靠性。

另外，光刻掩膜版測溫技術還可以提供數據分析和記錄功能。通過對測溫數據的分析和記錄，可以了解光刻過程中的溫度變化規律，為工藝優化和質量控制提供參考。此外，測溫數據的記錄還可以用于質量追溯和問題分析，為產品的質量管理提供依據。

總之，光刻掩膜版測溫技術是一種重要的技術，用于在光刻過程中監測和控制溫度。它通過在掩膜版上安裝溫度傳感器，實時測量溫度變化，并根據測量結果進行相應的控制。光刻掩膜版測溫技術具有實時監測、控制和數據分析記錄的功能，可以提高光刻過程的穩定性和可靠性，為產品的質量管理提供支持。隨著技術的不斷發展，光刻掩膜版測溫技術將進一步完善和創新，為光刻工藝的優化和產品質量的提升提供更多的可能性。

GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀

技術指標

通道數量：0-66路

溫度范圍：-200到1600度

精度：0.1-0.5可選

分辨率：0.01

供電：電源供電或電池供電