資料介紹
場效應管(FET)是一種具有pn結的正向受控作用的有源器件,它是利用電場效應來控制輸出電流的大小,其輸入端pn一般工作于反偏狀態或絕緣狀態,輸入電阻很高,柵極處于絕緣狀態的場效應管,輸入阻抗很大。目前廣泛應用的是SiO2為絕緣層的絕緣柵場效應管,稱為金屬-氧化物-半導體場效應管,簡稱MOSFET。以功能類型劃分,MOSFET分為增強型和耗盡型兩種,其中耗盡型與增強型主要區別是在制造SiO2絕緣層中有大量的正離子,使在P型襯底的界面上感應出較多的負電荷,即在兩個 N型區中間的P型硅內形成一層N型硅薄層而形成一個導電溝道,所以在VGS=0時,有VDS作用時也有一定的ID(IDSS);當 VGS有電壓時(可以是正電壓或負電壓),改變感應的負電荷數量,從而改變ID的大小。VP為ID=0時的-VGS,稱為夾斷電壓。
MOSFET的特點是用柵極電壓來控制漏極電流。隨著微電子集成化的需要越來越高,FET器件的尺寸也越來越小,而普通 FET器件散熱性受材料本身限制很難有進一步的提高,石墨烯由于其優良的熱導率制作出的FET器件“完美”的解決該問題。自從場效應管發明以來,人們一直嘗試將電場效應應用到金屬材料上,制造金屬基場效應管。利用金屬制造晶體管不僅可以將尺度做小,而且可以降低功耗,并且使用頻率高于傳統半導體。但是由于金屬屏蔽效應,電場在金屬中的穿透深度小于 1nm,因此制造金屬晶體管時需要使用原子級厚度的金屬薄膜。但是由于熱動力學原因,當金屬薄膜達到納米級別時不能穩定存在。另外,對于金屬而言,電場效應誘導的載流子濃度一般不會超過 1013cm-2,比納米尺度的金屬薄膜中的本征載流子濃度低幾個量級(近似可以忽略),通過電場效應很難實現調制載流子濃度,因此利用金屬制造晶體管一直沒有實現。
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