資料介紹
移動設備的設計趨勢朝著輕薄短小發展,加上應用頻段的增加,導致LTE天線可占用的空間逐漸縮小,性能要求卻更上層樓;而可調諧射頻元件能運用體積更小但網絡性能更大的天線提升LTE性能,換句話說,只要將可調諧射頻元件附加于天線上,工程師就能設計出更小尺寸且更高性能的天線。當前長期演進計劃(LTE)的發展勢頭迅猛,運營商與手機制造商都深知4G網絡并非3G性能萎靡不振時的萬靈丹。事實上,完整的LTE解決方案包括提升速度、可靠度及一系列持續強化處理,以避免因網絡流量過大、數據使用量增加,還有外形尺寸限制等因素而造成的擁塞。一般來說,高數據傳輸率中使用的調變方案較為復雜,對信號處理的要求也格外嚴格。麻煩的是,若要實現全球性的LTE,就必須運用比3G更多的頻段,以往手持設備的基本需求為須具備七個頻段,而現在要達成真正的全球漫游則需十三個頻段以上。更重要的是,天線的性能限制嚴重威脅到速度,這使得多功能服務業者無不引頸盼望LTE能提供其承諾的投資回報率。可調諧射頻元件日趨重要 RF-MEMS設計居要位考慮到天線在LTE中的重要性日增,如何協助工程師設計出體積更小但性能更高的天線尤為關鍵,而動態可調諧射頻 (Dynamic Tunable RF)元件能運用體積更小但網絡性能更大的天線來提升LTE性能,通過此技術,便能解決業界人士所熟知的既有空間限制。可調諧射頻元件系利用單一天線來接收更多頻率范圍,可進一步減少手機實際運作時,所需搭載的整體天線數量,對多重輸入輸出(MIMO)技術趨勢而言,意義重大,因為在該技術中,有多達四支各具不同功能的天線存在;而可調諧射頻通過最高效率進行發送與接收,較不受其他干擾源(如頭和手的位置)的影響。值得一提的是,在少數已進入市場的天線問題補償方案中,只有動態可調諧射頻微機電系統(MEMS)技術能有效達成目的。而目前技術較為領先的可調諧射頻元件系采用數字電容數組,并利用RF-MEMS技術將電子電路整合于單一硅晶粒(Die)上,以同時兼顧性能及尺寸要求。 RF-MEMS技術架構如圖1所示,各部元件包括上蓋(Lip)、倒裝芯片墊(Flop Chip Pad)、調諧電容器(Tunable Capacitor)、硅基板(Silicon Substrate)和固定的被動與連接元件(Fixed Passives & Interconnect)。
損耗低/空間小 RF-MEMS技術優勢多 RF-MEMS電容器屬于機械元件,置于硅晶圓(Silicon Wafer)表面,其包含兩片金屬板,且會因外加電壓產生的靜電而靠在一起;此外,兩個金屬板之間還設有一絕緣層,如此即構成電容器。相對于一般以電流通過半導體基板的實體開關,在RFMEMS元件上的電流則只在金屬中流動,故損耗極低,且能進行超線性運作。由于RF-MEMS電容器整合于單一互補式金屬氧化物半導體(CMOS)晶圓上,故所有控制MEMS的元件都存在于同一個晶粒上,這不僅節省路由空間,還將往來于控制線的信號耦合降至最低,這點特別重要,因為元件啟動時往往需要約35伏特直流電(VDC)的高電壓。既然RF-MEMS電容器位在同一個CMOS晶粒上,其所需電壓就可由芯片上的整合電荷泵來產生,如此一來,唯一需要的外部電源電壓只需2.7~3.3伏特即足夠。此外,所有元件的驅動程序都可內建,而所有電容設定皆可通過緩存器(Register)來選擇,不論緩存器是通過業界標準的串行周邊接口(SPI)寫成,還是以行動產業處理器接口(MIPI)聯盟的射頻前端控制(RFFE)串行接口寫成。另外,RF-MEMS元件的機械結構所產生的機械共振頻率較低,約為60kHz。這是因為整段結桿(Beam)會以驅動信號的半波長共振,故當MEMS元件閉合,共振就不那么明顯,且會轉移為MHz的頻率。這種低機械共振頻率,造就其優秀線性度,因為 MEMS元件并無法直接對GHz范圍的信號變化產生反應。
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