隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展和智能制造的推動(dòng)，半導(dǎo)體制造過(guò)程中，對(duì)尺寸、形狀和表面質(zhì)量的檢測(cè)至關(guān)重要。而顯微測(cè)量?jī)x的高精度、高分辨率的測(cè)量能力，為半導(dǎo)體行業(yè)提供了強(qiáng)大的支持。

SuperViewW光學(xué)3D表面輪廓儀結(jié)合機(jī)械制造、計(jì)算機(jī)技術(shù)、圖像出處理技術(shù)，以非接觸的掃描方式，實(shí)現(xiàn)針對(duì)樣品表面的高重復(fù)精度的3D測(cè)量，獲取樣品表面質(zhì)量的2D、3D數(shù)據(jù)。

儀器集合PSI高精度&VSI大范圍雙重優(yōu)點(diǎn)的EPSI掃描算法，從0.1nm級(jí)別的超光滑表面到數(shù)十微米級(jí)別的粗糙表面，都能實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。此外具有的同步分析與預(yù)編程分析功能，實(shí)現(xiàn)了分析過(guò)程的所見即所得，測(cè)量到分析的一鍵式操作，有效縮減操作步驟。

VT6000共聚焦顯微鏡以針孔共聚焦技術(shù)為原理，結(jié)合高穩(wěn)定性結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和優(yōu)異的3D重建算法，可對(duì)各種精密器件及材料表面進(jìn)行微納米級(jí)粗糙度、微觀幾何輪廓等的測(cè)量。在半導(dǎo)體制造及封裝工藝檢測(cè)中，對(duì)大傾角產(chǎn)品有更好的成像效果。

在芯片制造的各個(gè)環(huán)節(jié)，顯微測(cè)量?jī)x用于檢測(cè)半導(dǎo)體芯片和晶圓的尺寸和形狀，提供準(zhǔn)確的尺寸測(cè)量，滿足半導(dǎo)體制造過(guò)程中對(duì)尺寸、形狀和表面質(zhì)量更嚴(yán)格的要求，幫助制造商及時(shí)發(fā)現(xiàn)和糾正任何偏差；在表面質(zhì)量的評(píng)估和缺陷檢測(cè)方面，顯微測(cè)量?jī)x可以檢測(cè)微小的表面缺陷和污染，確保產(chǎn)品的表面質(zhì)量達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)要求，提高產(chǎn)品的可靠性和穩(wěn)定性。

我們有理由相信，在新技術(shù)和新思維的推動(dòng)下，顯微測(cè)量?jī)x將使半導(dǎo)體行業(yè)邁向更加智能化、高效化和可持續(xù)化的未來(lái)。