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　　納米光刻是納米技術中涉及納米級結構工程的技術領域中一個不斷發(fā)展的領域，納米光刻領域的誕生是出于增加集成電路中晶體管數量以維持摩爾定律的需要，光刻已成為最成功的商業(yè)技術，能夠產生100 nm以下的圖案。