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　　與平面工藝相比，F(xiàn)inFET的復(fù)雜性一般會(huì)導(dǎo)致更加昂貴的制造工藝，F(xiàn)inFET降低了工作電壓，提高了晶體管效率，對(duì)靜態(tài)功耗（線性）和動(dòng)態(tài)功耗（二次方）都有積極作用。可節(jié)省高達(dá)50%的功耗。性能也更高——在0.7V上，性能（吞吐量）比平面工藝高37%。