盡管日韓貿易沖突持續(xù)延燒，三星電子原定9月在日本東京的晶圓代工論壇將如期舉行。三星屆時預料將展示自家先進制程技術，并提供用于生產3納米以下芯片，名為「環(huán)繞閘極」（GAA）技術的制程套件。三星據(jù)稱在GAA技術領先全球晶圓代工龍頭臺積電一年，更超前英特爾（Intel）兩到三年。

南韓媒體BusinessKorea報導，三星28日宣布，2019年「三星晶圓代工論壇」（SFF）將如期于9月4日在東京舉行，且已于26日在網站上開始受理報名。在日韓貿易緊張不斷升高之際，業(yè)界正懷疑這場論壇能否如期在東京舉行，三星這項決定消弭了外界的疑慮。

產業(yè)專家分析，三星想要傳達的訊息是，盡管面臨日本的「斷貨」威脅，三星電子旗下的晶圓代工事業(yè)不受中斷。

報導指出，三星將展示自家奈米制程技術，并提供名為「環(huán)繞閘極」（GAA）技術的制程套件。GAA技術將用于3納米、甚至更精密的制程技術。

日本當局在4日加強管制三項重要半導體原料的出口，其中，日制光刻膠為極紫外光（EUV）微影技術的關鍵材料，讓三星的晶圓代工部門首當其沖，也削弱與臺積電在7納米芯片的競逐能力。

EUV制程是三星欲在2030年于全球記憶體、無晶圓廠及晶圓代工業(yè)務穩(wěn)坐龍頭寶座的關鍵。在EUV制程與臺積電旗鼓相當?shù)娜请娮樱祚R加鞭量產7納米芯片，盼能借提前進度超車臺積電。但日本本周非?？赡馨涯享n踢出「白色名單」，三星的高科技原料進口預料將更加受限。

三星預定未來幾個月完成位于華城的第一條EUV芯片產線，并計劃之后在京畿道平澤建設另一條EUV產線。如今，三星一名高階主管指出，「考量到當前情況，我們必須考慮投資新EUV產線的時機」。

三星電子自5月開始陸續(xù)在美國、上海及首爾舉辦晶圓代工論壇，待9月論壇落幕后，下一場將論壇于10月在德國慕尼黑登場。

臺積電回應： 有信心維持領先

面對三星積極沖刺晶圓代工，并企圖在3 納米制程超車臺積電，臺積電發(fā)言系統(tǒng)表示，不對競爭對手的技術發(fā)展做任何評論，并強調絕有信心在7納米、5納米，甚至3納米制程持續(xù)維持全球領先地位。

臺積電供應鏈分析，臺積電在制程推進深思熟慮，且有雄厚客戶群為后盾，讓臺積電每推出一項先進制程，絕對滿足客戶的性價比，且不與客戶競爭，是領先群雄的最大利基。

臺積電目前的7納米電晶體的密度，已非三星能匹敵，臺積電遙遙領先三星后，再導入更先進的5納米制程，雖然三星急于想在3納米切入GAA電晶體設計架構，認為要用更先進的技術，搶食臺積電現(xiàn)有客戶，但進入5納米后的光罩費用極為昂貴，更遑論3納米制程。

三星雖然在記憶體一直保持領先地位，因此也想復制記憶體成功模式，在晶圓代工挑戰(zhàn)臺積電地位。