本土晶圓代工企業崛起之際，設備進口議題備受關注。光刻機龍頭ASML近日表示，從荷蘭向中國出口DUV光刻機無需許可證。

“根據當前法規，ASML無需獲得美國出口許可證便可以繼續從荷蘭向中國客戶出貨DUV光刻系統；對于直接從美國發貨系統或零件到受法規影響的客戶，ASML需獲得許可證。”光刻機龍頭ASML總裁兼CEO Peter Wennink 在最新季度財報說明會上對中芯國際等中國客戶的出貨情況做了解釋。

ASML近日公布了光刻機產品的最新進展。其中TWINSCAN NXE:3600D作為其目前研發中的最先進光刻機系統，終于敲定最終規格。具體來說，30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產率，并改進機器匹配套準精度至1.1nm。

3600D定于2021年中旬出貨交付，客戶還需要一定時間等待，價格應該不會低于現款老型號的1.2億美元。

目前，ASML已經投產的最先進光刻機是3400C，但主力出貨型號是3400B。參數方面，3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小時可曝光125片晶圓。

另外，ASML透露，3400B在三季度也完成了軟件升級。全新的DUV光刻機TWINSCAN NXT:2050i已經在三季度結束驗證，四季度早期開始正式出貨。

據悉，在截止9月30日的單季度，ASML共獲得60臺光刻機收入，出貨了10臺EUV光刻機。關于最為先進的EUV光刻機出口中國的政策，ASML并未提及。

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