ASML在光刻機領域幾乎是巨無霸的存在，而他們對于與中國企業合作也是非常歡迎，無奈一些關鍵細節上被美國卡死。

中國需要光刻機，尤其是支持先進制程的高端光刻機，特別是 EUV （極紫外光源）光刻機，不過ASML對這個機器是不放行的，主要是美國強制要求。

EUV光刻機是光刻機在發展過程中的第五代產品，由于采用了極紫外線，它的最小工業節點到了 22nm-7nm，可以說是世界上最先進的光刻機設備——而這種設備，只有ASML能造出來。

2018年4月，中芯國際向ASML訂購了一臺 EUV 光刻機，價值1.2億美元（約合人民幣8億元），預計2019年年初交貨。后來此事被報道后，ASML回應稱，對包括中國客戶在內的全球客戶都一視同仁，且向中國出售EUV光刻機并沒有違反《瓦森納協定》。當時，荷蘭政府的確向 ASML 發放了出口許可證。

不過，最終這個交易也沒有形成，根據知情人士的說法，美國立即盯上了這筆交易——接下來的幾個月里，美方官員至少四次與荷蘭官員開會，討論可否直接封殺這筆交易。

此后，關于 EUV 光刻機向中國出口，ASML 的官方說法一直是：公司仍在等待新許可證申請的批準。

在這之前，ASML CFO Roger Dassen在財報會議的視頻采訪中談到了與中芯國際等中國客戶的業務情況，其表示一些情況下，出口光刻機是不需要許可證的。

Roger Dassen指出，ASML了解美國當局目前的規章制度及其解釋，當然也知道這些與特定的中國客戶密切相關，但如果廣泛的來理解其規章制度對ASML的總體含義（對于特定的中國客戶），則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統，且無需出口許可證。

美國僅僅是限制了美國不能給中國出口芯片、光刻機等，但并沒有限制其他國家對中國進口，荷蘭并不在美國的禁令范圍內。

目前的光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV光刻機，分為干分式與液浸式兩種。其中，液浸式于ASML手中誕生，其波長雖然有193nm，但等效為134nm，經過多重曝光后，液浸式光刻機也能夠達到7nm工藝。但是，每多一次曝光都會使得制造成本大大提升，而且良品率也難以控制。

EUV光刻機采用13.5nm波長的光源，是突破10nm芯片制程節點必不可少的工具。也就是說，就算DUV（深紫外線）光刻機能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒有ASML的EUV光刻機，芯片巨頭臺積電、三星、Intel的5nm產線就無法投產。

責任編輯：PSY