ASML已完成制造1nm芯片的EUV光刻機的設計方案
論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術細節。
至少就目前而言，ASML對于3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規劃，且1nm時代的光刻機體積將增大不少。
據稱在當前臺積電、三星的7nm、5nm制造中已經引入了NA=0.33的EUV曝光設備，2nm之后需要更高分辨率的曝光設備，也就是NA=0.55。好在ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計（即NXE：5000系列），預計在2022年實現商業化。
至于上文提到的尺寸為何大幅增加就是光學器件增大所致，潔凈室指標也達到天花板。
阿斯麥目前在售的兩款極紫外光刻機分別是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，3600D計劃明年年中出貨，生產效率將提升18%。
責編AJX
聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規問題，請聯系本站處理。
舉報投訴
-
芯片
+關注
關注
459文章
52308瀏覽量
437923 -
ASML
+關注
關注
7文章
723瀏覽量
42119 -
EUV光刻機
+關注
關注
2文章
129瀏覽量
15430
發布評論請先 登錄
相關推薦
熱點推薦
光刻機巨頭ASML業績暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？
電子發燒友網報道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設備，光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻
光刻圖形轉化軟件免費試用
，或者MDP軟件。
現有可免費試用的光刻圖形轉化軟件，可實現最高1nm精度的大型圖形轉換，同時只需要的少量的電腦內存就可以運行。如需要請聯系我，謝謝！
發表于 05-02 12:42
成都匯陽投資關于光刻機概念大漲，后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一，其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對
不只依賴光刻機！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數字時代的“心臟”，其制造過程復雜而精密，涉及眾多關鍵環節。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機這一高端設
芯片制造:光刻工藝原理與流程
光刻是芯片制造過程中至關重要的一步，它定義了芯片上的各種微細圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹，包括原理和具體步驟。??
組成光刻機的各個分系統介紹
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現這一工藝的核心設備，它的工作原
日本首臺EUV光刻機就位
據日經亞洲 12 月 19 日報道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設備的半導體公司，已經開始在北海道芯片制造廠內安裝極紫外
用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造：光刻技術的演進 過去半個多世紀，摩爾定律一直推動著半導體技術的發展，但當
光刻機巨頭拋出重磅信號 阿斯麥（ASML）股價大幅上漲
在2024年投資者會議上，光刻機巨頭拋出重磅利好；緊接著ASML股價開始大幅拉升；一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯麥在會議上宣布，預計2030年的銷售額將在440億歐元至600億歐元之間
今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉；三星將于2025年初引進High NA EUV光刻機
1. 三星將于2025 年初引進High NA EUV 光刻機，加快開發1nm 芯片 ? 據報道，三星電子正準備在2025年初引入其首款Hi
發表于 10-31 10:56
?1007次閱讀
光刻機巨頭阿斯麥業績爆雷 ASML股價暴跌16.26%創最大的單日跌幅
在當地時間周二，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥公布了一份不及預期的第三季度業績報告；訂單量環比下降53%，?業績爆雷第一時間反應到ASML公司的股價暴跌。 在美股市場，光刻機巨頭阿斯麥（ASML
ASML CEO:全球芯片市場亟需中國傳統芯片
近日，全球光刻機巨頭ASML的首席執行官Christophe Fouquet在接受外媒采訪時，發表了一系列引人深思的言論。他指出，盡管由于復雜的地緣政治因素，ASML無法向中國廠商出售最先進的
工商網監
評論