MOSFET的開(kāi)關(guān)特性解析|必看
MOS管最顯著的特點(diǎn)也是具有放大能力。不過(guò)它是通過(guò)柵極電壓uGS控制其工作狀態(tài)的,是一種具有放大特性的由電壓uGS控制的開(kāi)關(guān)元件。
1、靜態(tài)特性
MOS管作為開(kāi)關(guān)元件,同樣是工作在截止或?qū)▋煞N狀態(tài)。由于MOS管是電壓控制元件,所以主要由柵源電壓uGS決定其工作狀態(tài)。圖下(a)為由NMOS增強(qiáng)型管構(gòu)成的開(kāi)關(guān)電路。
2、 漏極特性
反映漏極電流iD和漏極-源極間電壓uDS之間關(guān)系的曲線族叫做漏極特性曲線,簡(jiǎn)稱為漏極特性,也就是表示函數(shù) iD=f(uDS)|uGS的幾何圖形,如圖(a)所示。
當(dāng)uGS為零或很小時(shí),由于漏極D和源極S之間是兩個(gè)背靠背的PN結(jié),即使在漏極加上正電壓(uDS》0V),MOS管中也不會(huì)有電流,也即管子處在截止?fàn)顟B(tài)。
當(dāng)uGS大于開(kāi)啟電壓UTN時(shí),MOS管就導(dǎo)通了。因?yàn)樵赨GS=UTN時(shí),柵極和襯底之間產(chǎn)生的電場(chǎng)已增加到足夠強(qiáng)的程度,把P型襯底中的電子吸引到交界面處,形成的N型層——反型層,把兩個(gè)N+區(qū)連接起來(lái),也即溝通了漏極和源極。
所以,稱此管為N溝道增強(qiáng)型MOS管??勺?a target="_blank">電阻區(qū):當(dāng)uGS》UTN后,在uDS比較小時(shí),iD與uDS成近似線性關(guān)系,因此可把漏極和源極之間看成是一個(gè)可由uGS進(jìn)行控制的電阻,uGS越大,曲線越陡,等效電阻越小,如圖(a)所示。
恒流區(qū)(飽和區(qū)):當(dāng)uGS》UTN后,在uDS比較大時(shí),iD僅決定于uGS(飽和),而與uDS幾乎無(wú)關(guān),特性曲線近似水平線,D、S之間可以看成為一個(gè)受uGS控制的電流源。在數(shù)字電路中,MOS管不是工作在截止區(qū),就是工作在可變電阻區(qū),恒流區(qū)只是一種瞬間即逝的過(guò)度狀態(tài)。
3、轉(zhuǎn)移特性
反映漏極電流iD和柵源電壓uGS關(guān)系的曲線叫做轉(zhuǎn)移特性曲線,簡(jiǎn)稱為轉(zhuǎn)移特性,也就是表示函數(shù) iD=f(uGS)|uDS的幾何圖形,如圖(b )所示。當(dāng)uGS《utn時(shí),mos管是截止的。當(dāng)ugs》UTN之后,只要在恒流區(qū),轉(zhuǎn)移特性曲線基本上是重合在一起的。曲線越陡,表示uGS對(duì)iD的控制作用越強(qiáng),也即放大作用越強(qiáng),且常用轉(zhuǎn)移特性曲線的斜率跨導(dǎo)gm來(lái)表示?!?utn時(shí),mos管是截止的。當(dāng)ugs》
MOSFET開(kāi)關(guān)power on 漏電問(wèn)題
這是一個(gè)等電壓轉(zhuǎn)換開(kāi)關(guān)。由單片機(jī)去控制從3V3STBY到3V3SW的pmos 開(kāi)關(guān)。
如下圖,power on的過(guò)程中3V3SW power rail, 有一個(gè)voltage dip. 對(duì)比3V3SW_EN(blue),發(fā)現(xiàn)在turn on 控制信號(hào)到來(lái)之前,3V3SW上就有電壓了。
示波器測(cè)量發(fā)現(xiàn),3V3SW_EN控制信號(hào)pull high之前,mosfet gate電壓(green)和3V3之間有1.1V左右的gap, 原則上在控制電壓到來(lái)之前Vgate=3V3, 這樣Vgs《Vth, mosfet不導(dǎo)通。
查閱mosfet 手冊(cè),Vth最小0.4V。由此可見(jiàn),Vgs之間壓差導(dǎo)致漏電。
去掉電路中的C986和C985之后,問(wèn)題得到解決(最終方案C985換成了1nf的小電容)。
MOSFET的開(kāi)關(guān)特性
如下是mosfet的等效模型,Gate 和Drian、Source之間分別有寄生的電容Cgd和Cgs。這兩個(gè)寄生電容直接影響著mosfet的開(kāi)關(guān)特性。
有些mosfet手冊(cè)上關(guān)于這兩個(gè)寄生電容用Q來(lái)表示。
下圖是MOSFET trun on的整個(gè)過(guò)程:
Total 分為4個(gè)區(qū)域
Region 1, VGS 開(kāi)始增加,這個(gè)時(shí)候還沒(méi)有到達(dá)Vth, 所以VSD保持不變,ID還是零。t1時(shí)刻,VGS=Vth
Region2, VGS 達(dá)到Vth以后, mosfet 開(kāi)始導(dǎo)通,ID開(kāi)始有電流。由于gate和source之間寄生電容的存在,gate的電壓開(kāi)始給Cgs充電,達(dá)到t2的時(shí)候,Cgs 沖滿,VGS達(dá)到穩(wěn)定值,ID達(dá)到最大。
Region3, VGS繼續(xù)保持不變,Cgd開(kāi)始充電,VSD之間的壓差開(kāi)始減少,到達(dá)t3的時(shí)候,Cgd充滿了,VSD壓差幾乎到達(dá)最小值,這個(gè)時(shí)刻mosfet 完全導(dǎo)通。
Region4, VGS持續(xù)增大到驅(qū)動(dòng)電壓,VSD之間的壓差=Rdson*ID.
從這個(gè)過(guò)程可以看到,如果要控制VSD的slew rate 可以控制region3的時(shí)間。Cgd增大,VSD slow rate就越小,當(dāng)然in-rush current 也越小。
當(dāng)然這也是為什么最上面的電路drain和gate之間有一個(gè)電容的原因,考慮到mosfet本身的寄生Cgd可能會(huì)比較小,增加這樣一個(gè)電容可以控制開(kāi)關(guān)的slew rate。
回到上面的問(wèn)題,由于電路中C985 C986都放了0.1uf,比較大,3V3STBY上升的過(guò)程中Gate電平?jīng)]有快速達(dá)到3.3V,導(dǎo)致漏電。減少容值,可解決問(wèn)題。
在有些電路中為了避免上述問(wèn)題,可以加一個(gè)二極管快速導(dǎo)通使gate電壓快速達(dá)到和source一致。
編輯:jq
-
MOSFET
+關(guān)注
關(guān)注
150文章
8338瀏覽量
218798
原文標(biāo)題:MOSFET的開(kāi)關(guān)特性解析|必看
文章出處:【微信號(hào):KIA半導(dǎo)體,微信公眾號(hào):KIA半導(dǎo)體】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
基本半導(dǎo)體碳化硅 MOSFET 的 Eoff 特性及其在電力電子領(lǐng)域的應(yīng)用

SiC MOSFET 開(kāi)關(guān)模塊RC緩沖吸收電路的參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)
SiC MOSFET的動(dòng)態(tài)特性

MOSFET與IGBT的區(qū)別
MOSFET開(kāi)關(guān)損耗計(jì)算
SiC MOSFET的靜態(tài)特性

MOSFET開(kāi)關(guān)損耗和主導(dǎo)參數(shù)
SiC MOSFET的參數(shù)特性
Si IGBT和SiC MOSFET混合器件特性解析

什么是MOSFET柵極氧化層?如何測(cè)試SiC碳化硅MOSFET的柵氧可靠性?
Diode的反向恢復(fù)特性的機(jī)理和模型原理

新型驅(qū)動(dòng)器IC優(yōu)化高速功率MOSFET的開(kāi)關(guān)特性

影響MOSFET開(kāi)關(guān)損耗的因素
了解用于碳化硅MOSFET的短路保護(hù)方法

碳化硅MOSFET的開(kāi)關(guān)尖峰問(wèn)題與TVS保護(hù)方案

評(píng)論