中國芯片重大突破，好消息接連而來
我國在芯片領域確實在不斷的進步，但這是這種進步和國際的最好水平，還是存在一定的差異。特別是在光刻機領域，我們的光刻機目前主要是90nm的光刻機，而上海微電子雖然可能突破28nm的光刻機，但是目前并沒有任何的消息或者任何的官方內容，我們所有的猜測都是一些只言片語的新聞所堆積出來的材料。
中國在半導體領域的劣勢被無限放大，缺乏核心技術的支持，也讓國內芯片企業走得越來越乏力，為了解決這樣的困境，目前國家不斷加大半導體領域的扶持力度，也制定了2025年實現70%芯片國產化的目標。
目前國內很多科技企業也開始從事半導體領域技術的研發，僅僅在2020年新增的半導體企業就多達兩萬家，高端的芯片直接決定著未來科技的走向，在眾多企業和研究所的努力之下，目前已經取得了很多技術的突破，在最重要的光刻機的研發上，也有了重大的突破。
中國半導體的三個好消息接連傳來：
清華大學研發出了可用于EUV光刻機的光源
可編程硅基光量子計算芯片
科技部強調聚焦半導體技術、強化人才的培養
繼華為公司之后，中國芯片取得了重大突破：在安全芯片領域取得了全球領先地位。
中國質量萬里行，圈聊科技，LeoGo科技綜合整理
責任編輯：李倩
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