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幾種常用的載體和芯片的裝配和返修工藝

電子萬花筒 ? 來源:電子萬花筒 ? 作者:陳澄,孫乎浩,謝 ? 2022-06-14 09:53 ? 次閱讀

摘要:

微波組件的調(diào)試工藝特殊復(fù)雜,尤其在微組裝部分,載體及芯片會頻繁地返修更換。主要介紹了幾種常用的載體和芯片的裝配及返修工藝,驗證了粘接或燒結(jié)的芯片及載體的剪切強(qiáng)度是否滿足GJB548中方法2019的相關(guān)要求,對比了使用的幾種導(dǎo)電膠及焊料裝配后的剪切強(qiáng)度。結(jié)果表明:使用導(dǎo)電膠粘接的芯片及載體,可反復(fù)進(jìn)行返修,剪切強(qiáng)度無明顯變化;采用燒結(jié)工藝的芯片及載體,可滿足一次返修,超過兩次返修后,焊接表面氧化嚴(yán)重,剪切強(qiáng)度有明顯下降。

引言

隨著微波多芯片組件在現(xiàn)代軍民用領(lǐng)域應(yīng)用的日益擴(kuò)大,微波組件不斷向小型化、高密度、高可靠和高性能的方向發(fā)展,對微波組件的裝配及調(diào)試工藝提出了更高的要求。目前,大量的微波組件采用混裝工藝,既有印制板或軟基板的焊接、大量表貼器件及封裝模塊的回流焊接、絕緣子連接器電氣互聯(lián)等電裝工藝,又有芯片及片式電容的粘接或共晶、載體(或稱為墊片、熱沉、襯底等)或共晶載體的粘接或低溫?zé)Y(jié)、金絲(帶)鍵合和芯片倒裝焊接等微組裝工藝,同時大量采用了激光封焊等氣密封裝技術(shù),具有多個溫度梯度的燒結(jié)或粘接。大量密集芯片及載體的裝配,微組裝部分容易受到電裝焊接的污染等特點,同時還存在難以察覺的失效隱患故障,試驗條件嚴(yán)苛。因此在微波組件裝配與調(diào)試中設(shè)立了自檢、互檢、專檢的工位,在工藝設(shè)計時充分考慮溫度梯度的可實施性及返修的可行性,在調(diào)試時采用多種手段,嚴(yán)格按照相關(guān)程序文件進(jìn)行。

針對微波組件特殊復(fù)雜的維修工藝,文中主要從微組裝的芯片及載體的維修工藝入手,研究其裝配及返修工藝,驗證粘接或燒結(jié)的芯片及載體的剪切強(qiáng)度是否滿足GJB 548中方法2019的相關(guān)要求,并對比使用的幾種導(dǎo)電膠及焊料裝配后的剪切強(qiáng)度。

1 試驗工藝與設(shè)備

1.1 裝配及檢測工藝設(shè)備

載體及芯片的粘接使用手動點膠機(jī)。點膠時間可調(diào),范圍為0.008~99.999 s。點膠壓力可調(diào),范圍為0~0.69 MPa。配件為:5 ml針筒+27G透明色針頭。使用參數(shù)為:時間0.1~3.0 s,壓力0.21~0.28 MPa。

載體及芯片的共晶及低溫?zé)Y(jié)使用共晶焊接機(jī)。低溫?zé)Y(jié)時加熱溫度為160 ℃,芯片共晶時加熱溫度為280 ℃。

使用剪切力測試儀測量粘接或燒結(jié)的載體及芯片的剪切強(qiáng)度。

1.2 裝配及返修用材料及工藝 對于載體的粘接,使用導(dǎo)電膠84-1A,固化參數(shù)為:170 ℃,30 min。對于芯片的粘接,使用導(dǎo)電膠H20E,固化參數(shù)為:150 ℃,30 min。

對于芯片的共晶焊接,使用Au80Sn20焊料進(jìn)行焊接;對于載體或共晶載體的低溫焊接,使用In80Pb15Ag5或Sn43Pb43Bi14材料。根據(jù)管殼大小設(shè)定加熱溫度,一般為焊料熔點上調(diào)10~20 ℃。

對于粘接的芯片及載體的返修,由于管殼中的溫度梯度的限制,經(jīng)過前期試驗進(jìn)行研究,使用H20E進(jìn)行粘接,固化參數(shù)為100 ℃,150 min。

對于共晶的芯片進(jìn)行返修時,一般將芯片及共晶的載體一并進(jìn)行鏟除,后使用H20E進(jìn)行粘接,固化參數(shù)為100 ℃,150 min。

對于共晶載體的低溫?zé)Y(jié),其返修工藝為加熱到原先溫度后,待焊料熔化后取出,并使用新的共晶載體進(jìn)行替換。若存在不能承受此加熱溫度的器件或模塊時,需在返修前將這些先拆除后再進(jìn)行返修。

選用的導(dǎo)電膠有84-1A、H20E、EK1000三種常用導(dǎo)電膠;選用的焊料為Au80Sn20、In80Pb15Ag5;選用的載體有可伐、鉬銅載體(Mo80Cu20);選用的芯片有HMC462(GaAs材料)、3590、Si基材料的微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)和芯片電容(陶瓷材料)。為保證熱膨脹系數(shù)盡量接近的原則,Si基芯片使用可伐合金載體,而GaAs、陶瓷的芯片使用鉬銅載體。材料及相關(guān)參數(shù)見表1。

表1 導(dǎo)電膠/焊料/芯片/載體參數(shù)

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2 試驗結(jié)果及分析

2.1 導(dǎo)電膠粘接裝配及返修工藝

使用20 mm×20 mm×2 mm的鋁合金墊塊模擬管殼進(jìn)行試驗,墊塊表面鍍銀處理。使用手動點膠機(jī)進(jìn)行載體的粘接,點膠量及粘接效果如圖1所示。

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圖1 載體粘接圖

對于需要載體安裝的芯片,其粘接工藝為先將載體粘接到管殼內(nèi),后粘接芯片。對于無需裝配載體的芯片,如MEMS濾波器,由于其芯片的特殊性,直接將芯片粘接到管殼內(nèi),為保證其散熱性能,使用EK1000導(dǎo)電膠進(jìn)行粘接,粘接效果如圖2所示。

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圖2 MEMS粘接效果圖

導(dǎo)電膠固化完成后,使用剪切力測試儀測量其剪切強(qiáng)度。測試方法及結(jié)果如圖3所示。將推刀貼近但不接觸墊塊及被測樣品,后進(jìn)行測量,待樣品被推刀推斷后自動讀出數(shù)據(jù)。

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圖3 剪切力測試

對載體及芯片完成推拉力試驗后,將墊板上殘余的導(dǎo)電膠拆除平整后,重新使用H20E導(dǎo)電膠粘接,固化參數(shù)為100 ℃,150 min。鏟除后的墊板表面如圖4所示。

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圖4 去除導(dǎo)電膠后的墊板表面

重新粘接固化完成后,使用剪切力測試儀進(jìn)行測量其剪切強(qiáng)度。測試結(jié)果如圖5所示。推拉力試驗測試的數(shù)據(jù)見表2。

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圖5 返修后載體及芯片背面 表2 推拉力測試結(jié)果

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針對GJB 548B-2005中2019 芯片剪切強(qiáng)度的失效判據(jù),對測試樣品尺寸( S )和強(qiáng)度( F )的對應(yīng)關(guān)系為:

1) S >4.13 mm 2 , F >50 N;

2)0.32 mm 2 ≤ S ≤4.13 mm 2 , F >12.14 S -0.14(N);

3) S <0.32 mm 2 , F >12 N。

根據(jù)以上對應(yīng)關(guān)系,得出試驗樣品與所需最小推力值,具體見表3。

表3 樣品與最小推力值關(guān)系

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由表3可知,試驗中樣品的剪切強(qiáng)度均遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于GJB 548B中規(guī)定的最小承受應(yīng)力值。在載體粘接方面,大面積載體粘接的剪切強(qiáng)度可達(dá)到最小規(guī)定值的10倍以上。且由于導(dǎo)電膠及固化溫度的限制,返修后的粘接強(qiáng)度無法達(dá)到第一次裝配的強(qiáng)度,只能達(dá)到第一次正常裝配的80%左右的強(qiáng)度。從推拉力后的載體背面觀察,第一次正常裝配后,載體表面膠量較小,小面積的載體尤為明顯,膠量殘留只有10%左右的面積。而返修后的載體,膠量殘留可達(dá)到80%以上,分析認(rèn)為這與返修時對表面進(jìn)行了清理,增加了表面粗糙度有關(guān)。對于MEMS芯片的剪切強(qiáng)度,正常裝配與返修后的芯片剪切強(qiáng)度差距不大,分析認(rèn)為這與兩種導(dǎo)電膠在這兩種固化溫度下的粘接強(qiáng)度有關(guān)。對于芯片的剪切強(qiáng)度,由于芯片材料很脆,因此剪切強(qiáng)度較低,遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于載體的剪切強(qiáng)度。經(jīng)過一次返修后芯片的剪切強(qiáng)度,比第一次粘接的芯片強(qiáng)度略高,約為10%。分析認(rèn)為,返修時對表面進(jìn)行了清理,增加了表面粗糙度,以及低溫長時間的固化可能比正常裝配時的導(dǎo)電膠的粘接強(qiáng)度略高。對上述材料進(jìn)行多次維修,并進(jìn)行推拉力測試,結(jié)果發(fā)現(xiàn)與第一次返修的剪切強(qiáng)度無明顯差別。

2.2 焊料燒結(jié)裝配及返修工藝

芯片共晶及載體燒結(jié)工藝為:先使用AuSn焊料將芯片共晶到載體上,再使用In80Pb15Ag5焊料將共晶載體燒結(jié)到管殼上。芯片共晶及載體燒結(jié)后的返修工藝為:加熱臺加熱管殼,待In80Pb15Ag5焊料熔化后將共晶載體取出,重新共晶芯片到載體后,用In80Pb15Ag5焊料焊接共晶載體到管殼上。裝配及返修效果如圖6所示。圖6(a)左側(cè)為共晶載體的燒結(jié),右側(cè)為載體的燒結(jié)。圖6(b)為兩次返修后拆除載體的墊板表面,中間區(qū)域為燒結(jié)區(qū)域。

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圖6 芯片及載體燒結(jié)圖

對共晶芯片及載體的推拉力試驗結(jié)果見表4。

表4 燒結(jié)芯片及載體推拉力測試結(jié)果

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可以看出,共晶芯片及共晶載體(正常裝配及返修后)的剪切強(qiáng)度滿足GJB 548B的要求,其中正常裝配下的共晶載體的剪切強(qiáng)度可達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)值的9倍以上,且第一次返修后,強(qiáng)度可比第一次的剪切強(qiáng)度提高10%左右。但經(jīng)過多次返修后,從圖6(b)中可看出,墊板表面的附著焊錫出現(xiàn)較為嚴(yán)重的氧化現(xiàn)象,表面焊錫發(fā)灰白狀,不光亮,難以去除,剪切強(qiáng)度呈明顯下降趨勢,只能達(dá)到前期強(qiáng)度的17%左右。

通過上述試驗,得出所選材料的剪切強(qiáng)度為:

In80Pb15Ag5>Au80Sn20>84-1A>H20E>EK-1000。

3 結(jié)束語

主要介紹了幾種常用的載體和芯片的裝配和返修工藝,以及選用的幾種燒結(jié)及粘接的材料,驗證了粘接或燒結(jié)的芯片及載體的剪切強(qiáng)度可完全滿足按照GJB 548方法2019的相關(guān)要求,但燒結(jié)載體在2次返修后強(qiáng)度會發(fā)生明顯下降。對比使用的幾種導(dǎo)電膠及焊料裝配后的剪切強(qiáng)度:In80Pb15Ag5>Au80Sn20>84-1A>H20E>EK-1000。(參考文獻(xiàn)略)

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原文標(biāo)題:微波組件用載體及芯片的返修工藝研究

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