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什么是IGBT的退飽和?什么情況下IGBT會進入退飽和狀態(tài)?

青島佳恩半導(dǎo)體有限公司 ? 來源:青島佳恩半導(dǎo)體有限公司 ? 作者:青島佳恩半導(dǎo)體有 ? 2022-12-16 15:29 ? 次閱讀

如下圖,是IGBT產(chǎn)品典型的輸出特性曲線,橫軸是C,E兩端電壓,縱軸是歸一化的集電極電流。可以看到IGBT工作狀態(tài)分為三個部分:

【 一:截止區(qū) 】

CE間電壓小于一個門檻電壓,即背面PN結(jié)的開啟電壓,IGBT背面PN結(jié)截止,無電流流動。

【 二:飽和區(qū) 】

CE間電壓大于門檻電壓后,電流開始流動,CE間電壓隨著集電極電流上升而線性上升,這個區(qū)域稱為飽和區(qū)。因為IGBT飽和電壓較低,因此我們希望IGBT工作在飽和區(qū)域。

【 三:線性區(qū) 】

隨著CE間電壓繼續(xù)上升,電流進一步增大。到一定臨界點后,CE電壓迅速增大,而集電極電流并不隨之增長。這時我們稱IGBT退出了飽和區(qū)。在這個區(qū)間內(nèi),IGBT損耗增加,發(fā)熱嚴重,是需要避免的工作狀態(tài)。

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圖1 IGBT產(chǎn)品典型輸出特性曲線

為什么IGBT會發(fā)生退飽和現(xiàn)象?

這要從IGBT的平面結(jié)構(gòu)說起。IGBT和MOSFET有類似的器件結(jié)構(gòu),MOS中的漏極D相當于IGBT的集電極C,而MOS的源極S相當于IGBT的發(fā)射極E,二者都會發(fā)生退飽和現(xiàn)象。下圖所示是一個簡化平面型IGBT剖面圖,以此來闡述退飽和發(fā)生的原因。柵極施加一個大于閾值的正壓VGE。則柵極氧化層下方會出現(xiàn)強反型層,形成導(dǎo)電溝道。這時如果給集電極C施加正壓VCE,則發(fā)射極中的電子便會在電場的作用下源源不斷地從發(fā)射極E流向集電極C,而集電極中的空穴則會從集電極C流向發(fā)射極E,這樣電流便形成了。這時電流隨CE電壓的增長而線性增長,器件工作在飽和區(qū)。當CE電壓進一步增大,MOS溝道末的電勢隨著VCE而增長,使得柵極和硅表面的電壓差很小,進而不能維持硅表面的強反型,這時溝道出現(xiàn)夾斷現(xiàn)象,電流不再隨CE電壓的增加而成比例增長。我們稱器件退出了飽和區(qū)。

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審核編輯:湯梓紅

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原文標題:什么是IGBT的退飽和?什么情況下IGBT會進入退飽和狀態(tài)?

文章出處:【微信號:JNsemi,微信公眾號:青島佳恩半導(dǎo)體有限公司】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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