電子發燒友網報道（文/吳子鵬）日前，有外媒報道稱，荷蘭貿易部部長最近在致荷蘭議會的一封信中宣布，基于國家安全考慮，荷蘭政府將在夏天之前對其芯片出口實施新的限制。這項措施帶來的一個顯著改變就是，ASML***的出口限制從EUV***進一步下探了DUV***，以及先進的沉積設備。

ASML在當地時間3月8日的聲明中提到，將需要申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統，預計這些管制措施不會對該公司已發布的2023年財務展望以及于去年11月投資者日宣布的長期展望產生重大性影響。

堵死國內先進制程之路

從ASML的聲明中可以看出，并非是所有的DUV***設備都將被禁運，主要是最先進的DUV***設備。結合ASML官網的設備情況來看，限制范圍大致是TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i以及后續推出的更高端的DUV設備。

那么，現階段能夠購買到的設備是什么？答案是TWINSCAN NXT：1980Di。介紹信息顯示，這款***采用193nm光源，廣泛用于40nm或者38nm左右的成熟制程。業內人士表示，不能說TWINSCAN NXT：1980Di不能用于28nm、14nm，或者更先進的7nm。但是這樣做的代價是高昂的，光刻步驟更加復雜，良率會比較低，量產芯片的成本完全不能與基于更先進的DUV***或者EUV***搭建的產線相比。

先進DUV***在先進制程方面的價值是巨大的。此前，臺積電林本堅表示，該公司已經利用DUV***量產了7nm，未來還將繼續通過DUV量產5nm。而且，此前的文章中我們也介紹過英特爾當年量產10nm，借助的就是雙機臺和DUV***。

而我們也看到，在美光最新的DRAM技術中，依然也是在繼續采用DUV***。2022年11月2日，美光宣布其采用全球最先進技術節點的1β DRAM產品已開始向部分智能手機制造商和芯片平臺合作伙伴送樣以進行驗證，并做好了量產準備。在這項創新的DRAM量產技術中，美光實現了領先行業的低延遲、低功耗和高性能。而在實現的過程中，美光通過多重曝光光刻技術加上DUV***便實現了1βDRAM制程，成功繞開了EUV***。

因此，從計算芯片和DRAM量產來看，先進DUV***的價值是巨大的。

荷蘭之所以在此時將政策進一步收緊，離不開美國政府持續的游說。在雙方此前的多輪溝通中，荷蘭實際上都在堅持自己的原則。荷蘭外貿與發展合作大臣施賴納馬赫爾在2022年11月22日曾表示，荷蘭不會照搬美國對華的芯片管制政策，“重要的是我們要捍衛自己的利益——我們的國家安全，以及我們的經濟利益。”根據此前的財報數據，中國大陸是市場是ASML第三大的市場，營業收入達27億歐元，約占其2021年全球營業額的14.7%。

為了讓荷蘭對大陸禁售高端***，美國已經游說了多年。目前來看，荷蘭還是選擇了順從。分析師認為，在兩國的談判中，定然涉及到了美國當前正在大力推進的芯片本土制造。此前有報道稱，美國芯片法案的目標是500億美元的補貼，帶動2000億美元的產業投資，吸引了臺積電、三星、英特爾、格芯和美光等大廠紛紛投資，將會對***有比較大的需求。因此，ASML此舉無疑是一種市場換市場的行為。

國產設備唯一途可走

近些年，我國在整個集成電路制造領域，封裝環節算是較為成熟的環節，在設備和制造方面長期處于中低端水平，甚至是未破冰的狀態，僅在個別點上達到了國際領先水平。

自2020年開始，在國際形勢風云變幻的影響下，在國產化進程的帶動下，我國在半導體設備方面取得了長足的進展。根據中國電子專用設備工業協會的統計數據，2018年國產半導體設備在集成電路以及LED、面板、光伏和分立器件設備方面的自給率為12%。到了2020年，這一比例提升到了16.8%。2021年時，達到27.4%。公開數據顯示，在晶圓代工領域，2022年1-7月份，國內規模化公開招標的五家晶圓廠的半導體設備中，國產化率高達36%。在這個垂直領域內，2020年時公開競標項目的國產化率為7.4%，兩年不到的時間翻了近5倍。

有外媒引用分析師的預測數據稱，預計到2025年中國國產半導體設備在上述關鍵領域的自給率將達到50%。

隨著荷蘭在政策層面倒向美國一側，未來國產半導體設備的前進腳步將更加堅定，將完全摒棄搖擺思維，全心投入到全產業鏈自研中。經歷過去幾年的發展，國產半導體設備廠商已經涌現出一些具有代表性的廠商。比如在備受關注的***領域，已經出現上海微電子這家初具規模的國產***廠商。

上海微電子成立于2001年，前身是成立于1928年的國立中央研究院工程研究所，是我國最早的工學研究機構之一。一開始，上海微電子是在封裝用***領域引起關注。該公司于2009年開發SSB500系列步進重復***，2015年在封裝領域市占率已達40%。在晶圓代工領域，上海微電子SSX600系列步進掃描投影***已經能夠滿足280nm、110nm和90nm光刻需求，可用于8吋晶圓和12吋晶圓的規模量產。

目前，國內半導體產業都在密切關注上海微電子下一代***的交付。根據此前多方的爆料消息，這款***為一款28nm制程的***。

從產品組成來看，***主要由測量臺與曝光臺（雙工件臺）、激光器、光速矯正器、能量控制器、光速形狀設置、遮光器、能量探測器、掩膜版、掩膜臺、物鏡、內部封閉框架和減震器等11個模塊組成。在上游配套方面，國內華卓精科在雙工件臺方面已經打破壟斷，成為全球第二家掌握這項技術的公司；科益虹源也在***所需高能準分子激光器方面取得突破，已完成6khz、60w主流ArF***光源制造；奧普光學在光源方面已經突破到90nm***，等等。

除了***方面。北方華創在刻蝕、沉積、清洗、檢測等方面已經發展成為平臺型企業；中微公司用于集成電路、LED芯片等微觀器件領域的等離子體刻蝕設備、深硅刻蝕設備和MOCVD設備已經打入到頭部企業的尖端供應鏈；盛美上海的半導體清洗設備、半導體電鍍設備和先進封裝濕法設備等也已經用于28nm及以下的工藝平臺。

倪光南院士曾經說過，半導體芯片是一個產業鏈，你要替掉進口的、替掉壟斷的，才能在市場上站得住腳。隨著國際形勢越來越嚴峻，國產半導體設備廠商正在突破層層枷鎖，塑造全國產產業鏈。

寫在最后

當EUV***禁運時，我們抱有的幻想是，我們可以買到先進的DUV設備，靠著雙工臺和多重曝光的技術也能夠打入到先進制程領域。如今先進的DUV***也禁運了，我們不能說我們還能買尼康和佳能的設備，還有ASML的TWINSCAN NXT：1980Di可以用。這種時候，我們要摒棄一切幻想，國產替代和國產創新已經成為新常態。當國產生態成為閉環，***就真的有希望了。