晶圓的定位精度達到四分之一納米,并且每秒對準2萬次以消除任何振動的影響。光刻之前的步驟同樣令人不可思議。
計算光刻是芯片設計和制造領域中最大的計算工作負載,大型數據中心247全天候運行,以便創建用于光刻系統的掩膜板,這些數據中心是芯片制造商每年投資近2000億美元的資本支出的一部分
NVIDIA今天宣布推出cuLitho一一個計算光刻庫
NVIDIA H100需要89塊掩膜板,在CPU上運行時,處理單個掩膜板,當前需要兩周時間。
臺積電可以通過在500個DGX H100系統上使用cuLitho加速,將功率從35MW降至5MW,從而替代用于計算光刻的4萬臺CPU服務器,減少制造過程中的碳足跡,并為 2納米及以 上的生產做好準備
所有行業都需要加速各種工作負載,以便我們能減少功耗,達到事半功倍的效果。
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