近日,中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,上交所股票代碼:688012)推出自主研發(fā)的12英寸低壓化學氣相沉積(LPCVD)設備Preforma Uniflex CW。這是中微公司深耕高端微觀加工設備多年、在半導體薄膜沉積領域取得的新突破,也是實現(xiàn)公司業(yè)務多元化增長的新動能。
中微公司12英寸低壓化學氣相沉積產品
Preforma Uniflex CW
作為中微公司自主研發(fā)的產出效率高且性能卓越的12英寸LPCVD設備,Preforma Uniflex CW可靈活配置多達五個雙反應臺反應腔(十個反應臺),每個反應腔可以同時加工兩片晶圓,在保證較低的生產成本和化學品消耗的同時,實現(xiàn)更高的生產效率。
Preforma Uniflex CW, 作為中微公司自主研發(fā)的LPCVD設備,配備了完全擁有自主知識產權的優(yōu)化混氣方案及加熱臺, 具有優(yōu)秀的薄膜均一性、填充能力和工藝調節(jié)靈活性,對于彎曲度較大的晶圓,它也具備良好的工藝處理能力。并且其優(yōu)異的階梯覆蓋率和填充能力,可以滿足先進邏輯器件、DRAM和3D NAND中接觸孔以及金屬鎢線的填充應用需求。
探索不息,創(chuàng)新不止。中微公司推出的Preforma Uniflex CW是公司創(chuàng)新之路的又一里程碑。一直以來,中微公司踐行“四個十大”的企業(yè)文化,將產品開發(fā)的十大原則始終貫穿于產品開發(fā)、設計和制造的全過程,研發(fā)團隊秉持為達到設備高性能和客戶嚴格要求而開發(fā)的理念,堅持技術創(chuàng)新、設備差異化和知識產權保護。“這款LPCVD設備不僅擁有完整、自主的知識產權,還創(chuàng)造了中微公司新設備研發(fā)速度的新紀錄。”中微公司集團副總裁、LPCVD 產品部和公共平臺工程部總經理陶珩說:”自該款LPCVD設備研發(fā)立項以來,僅用不到半年時間,我們就完成了產品設計、生產樣機開發(fā)和實驗室評價,目前已順利導入客戶端進行生產線核準。”
如今,數(shù)碼產業(yè)已成為國民經濟的兩大支柱之一,正在徹底改變人類的生產和生活方式。中微公司董事長兼總經理尹志堯博士表示,“數(shù)碼強,則國強;數(shù)碼弱,則國弱。半導體微觀加工設備正是數(shù)碼產業(yè)的基石,是發(fā)展集成電路和數(shù)碼產業(yè)的關鍵。工欲善其事,必先利其器,加工微米及納米級微觀器件的設備對發(fā)展集成電路與微器件工業(yè)、促進數(shù)碼產業(yè)發(fā)展至關重要。此次我們推出LPCVD新產品,在等離子體刻蝕設備和MOCVD設備的基礎上,進一步拓展了公司的產品線布局,也增強了半導體設備的自主可控性。未來公司也將繼續(xù)瞄準世界科技前沿,堅持三維發(fā)展戰(zhàn)略,推出更多自主設計的半導體設備,為促進數(shù)碼產業(yè)發(fā)展貢獻力量。”
自2004年成立以來,中微公司致力于開發(fā)和提供具有國際競爭力的微觀加工的高端設備,現(xiàn)已發(fā)展成為國內高端微觀加工設備的領軍企業(yè)之一。未來,公司將繼續(xù)打造更多具有國際競爭力的技術創(chuàng)新與差異化產品,為客戶和市場提供性能優(yōu)越、生產效率高和性價比高的設備解決方案。
-
集成電路
+關注
關注
5420文章
11986瀏覽量
367531 -
數(shù)碼
+關注
關注
0文章
299瀏覽量
37382 -
中微公司
+關注
關注
0文章
71瀏覽量
12440
原文標題:擴充業(yè)務產品線 | 中微公司推出12英寸薄膜沉積設備Preforma Uniflex? CW
文章出處:【微信號:gh_490dbf93f187,微信公眾號:中微公司】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
12英寸SiC,再添新玩家
微軟推出全新Surface Windows11 AI+ PC Surface Laptop 13 英寸和Surface Pro 12英寸
質量流量控制器在薄膜沉積工藝中的應用

12英寸碳化硅襯底,又有新進展
中微公司推出12英寸晶圓邊緣刻蝕設備Primo Halona
碳化硅薄膜沉積技術介紹

半導體薄膜沉積技術的優(yōu)勢和應用
碳化硅襯底,進化到12英寸!

世界先進將在新加坡建12英寸晶圓廠
中微公司前三季度營收55億元!新品LPCVD 設備放量,新增訂單76.4 億元

淺談薄膜沉積
一文詳解半導體薄膜沉積工藝

功率氮化鎵進入12英寸時代!

評論