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tem成像系統(tǒng)有哪幾部分組成

上海季豐電子 ? 來(lái)源:上海季豐電子 ? 2023-08-07 09:47 ? 次閱讀

TEM的成像原理涉及許多物理和光學(xué)概念,涵蓋了電子束的產(chǎn)生、聚焦、樣品相互作用以及圖像形成等多個(gè)方面,從而造成TEM像的解釋很復(fù)雜。更具體的原因有以下幾點(diǎn):

1.復(fù)雜的物理過(guò)程

TEM中涉及的物理過(guò)程包括電子源產(chǎn)生、透射、衍射、散射、吸收等多個(gè)過(guò)程,這些過(guò)程相互作用并共同影響圖像的形成。

2.高級(jí)光學(xué)

TEM使用高能電子束來(lái)成像,這與傳統(tǒng)的光學(xué)顯微鏡有很大的差異。電子在樣品中的相互作用更復(fù)雜,需要理解電子的波動(dòng)性和相對(duì)論效應(yīng)等高級(jí)物理概念。

3.多種襯度

TEM的成像原理涉及多種襯度,如質(zhì)厚襯度、衍射襯度、相位襯度等,每種襯度都有其特定的影響機(jī)制和解釋方式。

4.分析復(fù)雜性

TEM圖像通常需要配合其他分析技術(shù)和樣品制備方法來(lái)解釋?zhuān)@使得理解圖像所傳遞的信息更具挑戰(zhàn)性。

雖然TEM像的解釋可能較復(fù)雜,但它也提供了無(wú)與倫比的高分辨率和高信息量,幫助研究人員深入了解材料的微觀結(jié)構(gòu)和特性,對(duì)科學(xué)研究和技術(shù)發(fā)展起著至關(guān)重要的作用。

什么是質(zhì)厚襯度(Mass Thickness Contrast)?

質(zhì)厚襯度在TEM中常用于形貌觀察,尤其是非晶體樣品觀察的基礎(chǔ)。

在TEM成像中,質(zhì)厚襯度(Mass Thickness Contrast)指的是樣品的厚度變化導(dǎo)致的電子束的強(qiáng)度變化。當(dāng)電子束與樣品交互作用時(shí),入射電子會(huì)與樣品中的原子核發(fā)生彈性散射,與核外電子發(fā)生非彈性散射。其中彈性散射是質(zhì)厚襯度的基礎(chǔ),而非彈性散射引起的色差則是會(huì)使背景強(qiáng)度增高,圖像襯度降低。如果樣品比較厚,電子束在穿過(guò)樣品時(shí)會(huì)與更多的原子核和電子相互作用,導(dǎo)致電子束被散射更多,從而在投影圖像中顯示為較暗的區(qū)域。相反,如果樣品較薄,電子束與樣品相互作用較少,電子束的強(qiáng)度相對(duì)較高,從而在圖像中顯示為較亮的區(qū)域。由此可見(jiàn),TEM觀察需要將TEM樣品制備成薄試樣。

什么是衍射襯度(DiffractionContrast)?

衍射襯度在TEM中常用于確認(rèn)材料的晶體結(jié)構(gòu)、晶格取向以及晶體缺陷等信息。

在TEM成像中,衍射襯度(Diffraction Contrast)指的是樣品中的結(jié)晶或周期性結(jié)構(gòu)對(duì)電子束的散射效應(yīng)不同導(dǎo)致的電子束強(qiáng)度變化。入射電子束與多晶樣品中不同取向的晶體發(fā)生相互作用時(shí),會(huì)因?yàn)闈M(mǎn)足布拉格條件的程度不同,導(dǎo)致它們產(chǎn)生的衍射強(qiáng)度不同。利用透射束或某一衍射束成像,由此產(chǎn)生的襯度稱(chēng)為衍射襯度。利用透射束成像稱(chēng)為明場(chǎng)像(BF-TEM),利用衍射束成像稱(chēng)為暗場(chǎng)像(DF-TEM)。對(duì)于暗場(chǎng)像又可以分為一般暗場(chǎng)像與中心暗場(chǎng)像,前者是不偏轉(zhuǎn)入射束,通過(guò)移動(dòng)物鏡光闌套住衍射束來(lái)成像,而后者是將物鏡光闌固定于透射束位置中心,通過(guò)偏轉(zhuǎn)入射束,使衍射束穿過(guò)居于中心位置的物鏡光闌來(lái)成像。

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(明場(chǎng)和中心暗場(chǎng)像成像原理圖)

什么是相位襯度(PhaseContrast)?

相位襯度成像是TEM實(shí)現(xiàn)高分辨成像的基礎(chǔ),它提供了一種有效的手段來(lái)觀察和分析低對(duì)比度樣品的微觀結(jié)構(gòu),尤其是獲得樣品的晶體結(jié)構(gòu)信息。

在TEM成像中,相位襯度(Phase Contrast)指的是利用透射束與一束或多束衍射束發(fā)生相位相干作用而得到晶格像和晶體結(jié)構(gòu)像。前者是晶體中原子面的投影,而后者是晶體中原子或原子集團(tuán)電勢(shì)場(chǎng)的二維投影。衍射襯度像的分辨無(wú)法優(yōu)于1.5nm(弱束暗場(chǎng)像的極限分辨率),而相位襯度像能提供小于1.5nm的細(xì)節(jié)。因此,這種圖像稱(chēng)為高分辨像。值得注意的是,高分辨晶格像中的亮暗襯度反映的是晶體的周期性變化,而非是原子占位。

季豐電子材料分析實(shí)驗(yàn)室配備了數(shù)十臺(tái)業(yè)內(nèi)先進(jìn)的主流電鏡,支持半導(dǎo)體、金屬、高分子、電池等領(lǐng)域的材料分析。尤其針對(duì)半導(dǎo)體材料分析要求嚴(yán)苛、知識(shí)密度高等特點(diǎn),具備獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。

實(shí)驗(yàn)室由多位博士領(lǐng)銜的技術(shù)團(tuán)隊(duì),不僅具有高超的半導(dǎo)體失效分析技術(shù)和豐富的案例經(jīng)驗(yàn),而且有深厚的半導(dǎo)體知識(shí)背景,擅長(zhǎng)先進(jìn)芯片樣品的截面和平面分析,包含形貌觀察、尺寸量測(cè)、元素分析及晶體學(xué)結(jié)構(gòu)解析,能有效助力客戶(hù)快速發(fā)現(xiàn)問(wèn)題,甄別失效的真因,改善生產(chǎn)工藝及產(chǎn)品設(shè)計(jì)。

責(zé)任編輯:彭菁

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原文標(biāo)題:為什么TEM像的解釋很復(fù)雜?

文章出處:【微信號(hào):zzz9970814,微信公眾號(hào):上海季豐電子】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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