在積極推進先進制程研發的同時,英特爾正在加大先進封裝領域的投入。在這個背景下,該公司正在馬來西亞檳城興建一座全新的封裝廠,以加強其在2.5D/3D封裝布局領域的實力。據了解,英特爾計劃到2025年前,將其最先進的3D Foveros封裝產能擴增至目前的四倍,同時還向客戶開放其先進封裝解決方案,使其能夠靈活選擇。
外界普遍預測,隨著英特爾整合了先進制程和先進封裝的優勢,其在晶圓代工領域將會變得更具競爭力。這將進一步與臺積電、三星等廠商展開市場份額的爭奪,未來這三家巨頭在晶圓代工市場的競爭將變得更加引人注目。
同時,英特爾還在不斷加強自身的封裝能力,而且表示愿意將先進封裝方案開放給客戶選擇。這可能會在封測市場引發一系列的變動,對專業半導體封測廠如日月光、艾克爾等產生影響。
就在臺積電和三星都在積極發展先進封裝技術時,英特爾也在該領域不斷創新。英特爾的先進封裝包括2.5D EMIB和3D Foveros方案。整個半導體產業中,從晶圓代工到先進封裝,三家巨頭之間的競爭態勢得以延伸。
英特爾在2017年引入了EMIB封裝技術,而第一代Foveros封裝則在2019年推出,其凸點間距為50微米。預計今年下半年,英特爾將推出基于第二代Foveros封裝技術的最新Meteor Lake處理器,凸點間距將進一步縮小至36微米。
盡管英特爾沒有透露目前的3D Foveros封裝產能,但它強調,在除了美國奧勒岡州和新墨西哥州之外,檳城新廠也將有相關產能布局,三個地點的3D封裝產能合計預計將在2025年增加至目前的四倍。
英特爾副總裁Robin Martin在接受采訪時強調,檳城新廠將成為英特爾最大的3D Foveros先進封裝中心。
此外,英特爾還在兩年前宣布投資35億美元擴展新墨西哥州的先進封裝產能,該項目至今仍在進行中。至于檳城新廠,英特爾表示,建設進展順利,外界估計該新廠可能在2024年底或2025年完工投產。
值得注意的是,英特爾不僅僅在晶圓代工和封裝方面展開了整合,它還開放了選擇其先進封裝方案的選項,旨在使客戶能夠更加靈活地生產產品。
在英特爾首席執行官基辛格的領導下,公司正在實施IDM 2.0戰略,不僅增加了自身晶圓廠的產能,還在擴大晶圓代工業務的同時,希望能夠更靈活地利用第三方的晶圓代工產能。
隨著先進制程的發展,小芯片(Chiplet)和異構整合的趨勢變得更加明顯,英特爾的2.5D/3D先進封裝布局不僅能夠增強其處理器等產品的實力,還能成為其在爭取更多晶圓代工業務方面的一個重要賣點。
審核編輯 黃宇
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